摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-10页 |
第一章 绪论 | 第10-23页 |
·压电材料概述 | 第10-12页 |
·压电材料及其特点 | 第10-11页 |
·无铅压电陶瓷的种类及其特点 | 第11-12页 |
·钛酸铋钠基无铅压电陶瓷的性能 | 第12-13页 |
·NBT陶瓷的制备技术 | 第13-15页 |
·固相烧结法 | 第13-14页 |
·水热合成法 | 第14页 |
·溶胶-凝胶法 | 第14-15页 |
·射频磁控溅射法 | 第15页 |
·陶瓷晶粒定向技术 | 第15页 |
·NBT 基无铅压电陶瓷掺杂改性研究进展 | 第15-18页 |
·NBT 单元系掺杂改性 | 第16页 |
·NBT-ATiO_3 二元系材料 | 第16-17页 |
·基于B 位Ti~(4+)取代的NBT-NaNbO_3、NBT-KNbO_3 材料 | 第17页 |
·基于结构相似性考虑的NBT-(K_(0.5)Bi_(0.5))TiO_3NBT ;(Li_(0.5)Bi_(0.5))TiO_3-(K_(0.5)Bi_(0.5))TiO_3 材料 | 第17-18页 |
·NBT-BT-KBT 三元体系 | 第18页 |
·本论文的研究内容和意义 | 第18-20页 |
参考文献 | 第20-23页 |
第二章LANIO_3薄膜微结构与电学性能研究 | 第23-33页 |
·前言 | 第23-24页 |
·实验过程 | 第24-25页 |
·LaNiO_3 前驱体溶液的制备 | 第24页 |
·LaNiO_3 薄膜的制备 | 第24页 |
·LaNiO_3 薄膜的表征 | 第24-25页 |
·结果与讨论 | 第25-31页 |
·本章小结 | 第31-32页 |
参考文献 | 第32-33页 |
第三章 (NA_(0.5)Bi_(0.5))TiO_3陶瓷薄膜的光学性能研究 | 第33-49页 |
·前言 | 第33页 |
·(NA_(0.5)BI_(0.5))TiO_3 薄膜的制备 | 第33-34页 |
·结果与讨论 | 第34-44页 |
·XRD 分析 | 第34页 |
·(Na_(0.5)Bi_(0.5))TiO_3 陶瓷薄膜的光学透射谱及色散关系 | 第34-41页 |
·(Na_(0.5)Bi_(0.5))TiO_3 折射率的测量结果 | 第41-44页 |
·本章小结 | 第44-46页 |
参考文献 | 第46-49页 |
第四章 钾、铽掺杂(NA_(0.5)BI_(0.5))TIO_3薄膜的光学性能研究 | 第49-70页 |
·K 掺杂(NA_(0.5)BI_(0.5))TIO_3 薄膜概述 | 第49-56页 |
·(Na_(1-x)K_x)_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3 薄膜的制备 | 第49-50页 |
·结果与讨论 | 第50-56页 |
·TB 掺杂(NA_(0.5)BI_(0.5))TIO_3 薄膜概述 | 第56-66页 |
·Na_(0.5)(Bi_(1-x)Tb_x)_(0.5)TiO_3薄膜的制备 | 第57-58页 |
·结果与讨论 | 第58-66页 |
·本章小结 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-70页 |
第五章 NA_(0.5)BI_(0.5)TIO_3纳米线的制备及其光致发光特性研究 | 第70-82页 |
·前言 | 第70-71页 |
·实验过程 | 第71-73页 |
·溶胶-凝胶-水热法实验过程 | 第71-72页 |
·样品的表征 | 第72-73页 |
·结果与讨论 | 第73-79页 |
·XRD 分析 | 第73-76页 |
·TEM 和 SEM 形貌 | 第76-78页 |
·钛酸铋钠纳米线XPS 与光致发光图谱 | 第78-79页 |
·本章小结 | 第79-80页 |
参考文献 | 第80-82页 |
第六章 结论与展望 | 第82-85页 |
·结论 | 第82-84页 |
·展望 | 第84-85页 |
攻读硕士期间发表和完成的论文 | 第85-86页 |
致谢 | 第86页 |