| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| ·课题的来源及意义 | 第10-12页 |
| ·课题的来源 | 第10页 |
| ·课题研究的背景及意义 | 第10-12页 |
| ·光学零件超精密加工技术现状 | 第12-16页 |
| ·光学镜面离子束抛光技术 | 第16-18页 |
| ·光学镜面离子束抛光技术的发展及研究现状 | 第16-17页 |
| ·离子束抛光的特点 | 第17-18页 |
| ·论文研究主要内容 | 第18-20页 |
| 第二章 离子束抛光机理与KDIFS系统构成 | 第20-32页 |
| ·计算机控制光学表面成形技术 | 第20-22页 |
| ·溅射理论与仿真 | 第22-28页 |
| ·溅射理论 | 第22-25页 |
| ·软件仿真 | 第25-28页 |
| ·光学镜面离子束抛光系统KDIFS-500 | 第28-30页 |
| ·本章总结 | 第30-32页 |
| 第三章 Kaufman离子源分析与特性研究 | 第32-46页 |
| ·离子源的种类与特点 | 第32-35页 |
| ·Kaufman离子源结构与原理 | 第35-40页 |
| ·Kaufman离子源结构 | 第35页 |
| ·Kaufman离子源基本理论 | 第35-40页 |
| ·Kaufman离子源特性 | 第40-45页 |
| ·离子源参数、调节参数与KDIFS-500工艺参数 | 第40-41页 |
| ·离子源热稳定 | 第41-42页 |
| ·工艺参数对离子源参数的影响 | 第42-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 光学镜面离子束加工工艺参数研究 | 第46-61页 |
| ·离子束去除函数的定义及描述 | 第46-47页 |
| ·去除函数特性 | 第47-52页 |
| ·离子源热稳定对去除函数的影响 | 第47页 |
| ·去除函数的稳定性 | 第47-51页 |
| ·去除函数的线性 | 第51页 |
| ·去除函数的重复性 | 第51-52页 |
| ·工艺参数对去除函数的影响 | 第52-58页 |
| ·屏栅电压 | 第52-53页 |
| ·加速栅电压 | 第53-54页 |
| ·气体流量 | 第54-55页 |
| ·屏栅电流 | 第55-56页 |
| ·中和阴极功率 | 第56-57页 |
| ·靶距对去除函数的影响 | 第57-58页 |
| ·离子束抛光工艺参数的选择 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第五章 光学镜面离子束修形 | 第61-66页 |
| ·离子束修形基本过程 | 第61-62页 |
| ·工艺参数选择及修形结果分析 | 第62-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第六章 总结与展望 | 第66-68页 |
| ·全文总结 | 第66-67页 |
| ·研究展望 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-72页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第72页 |