| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 0 前言 | 第13-14页 |
| 1 文献综述 | 第14-30页 |
| ·资源开发现状及需求市场 | 第14-15页 |
| ·开发锂资源的现状 | 第14-15页 |
| ·需求市场 | 第15页 |
| ·锂锰氧化物离子筛尖晶石结构 | 第15-17页 |
| ·LiMn2_O_4尖晶石结构 | 第15-16页 |
| ·离子筛材料的形成 | 第16-17页 |
| ·离子筛前躯体的合成 | 第17-20页 |
| ·固相烧结法 | 第17-18页 |
| ·微波烧结法 | 第17-18页 |
| ·高温烧结法 | 第18页 |
| ·液相反应法 | 第18-20页 |
| ·沉淀法 | 第18页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第18页 |
| ·水热法 | 第18-20页 |
| ·锂锰氧化物离子筛吸附剂的应用 | 第20-21页 |
| ·颗粒状锂吸附剂 | 第20页 |
| ·膜状锂吸附剂 | 第20-21页 |
| ·无机膜 | 第21-29页 |
| ·无机分离膜的分类 | 第21-22页 |
| ·无机分离膜的结构 | 第22页 |
| ·分子筛膜的种类 | 第22-23页 |
| ·自支撑膜（自立膜） | 第22-23页 |
| ·支撑膜 | 第23页 |
| ·分子筛膜的合成方法 | 第23-25页 |
| ·原位水热合成 | 第23-24页 |
| ·晶种法（也叫二次生长法） | 第24页 |
| ·微波加热法 | 第24页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第24-25页 |
| ·其他方法 | 第25页 |
| ·水热法合成沸石膜的主要影响因素 | 第25-29页 |
| ·载体的影响 | 第25-27页 |
| ·晶种的影响 | 第27页 |
| ·水硅质量比的对合成沸石分子筛膜的影响 | 第27-28页 |
| ·有无模板剂的影响 | 第28-29页 |
| ·本课题研究的目的及意义 | 第29-30页 |
| 2 硅溶胶做过渡层法锂离子筛膜的制备及其表征 | 第30-51页 |
| ·实验部分 | 第30-36页 |
| ·实验原料和装置 | 第30-32页 |
| ·锂锰氧化物前躯体合成 | 第32页 |
| ·硅溶胶过渡层的制备 | 第32页 |
| ·离子筛膜合成 | 第32-34页 |
| ·合成膜前载体的处理 | 第32-33页 |
| ·抽真空引晶种 | 第33页 |
| ·离子筛膜合成的装置图 | 第33页 |
| ·锂离子筛膜合成的流程图 | 第33-34页 |
| ·样品的表征 | 第34-36页 |
| ·溶液pH 值的调节 | 第34页 |
| ·化学成分分析 | 第34-35页 |
| ·结构和表面形貌的表征 | 第35页 |
| ·常温下单气体渗透表征 | 第35-36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-49页 |
| ·锂离子筛合成条件的确定 | 第37-39页 |
| ·CTAB 模板剂的引入对离子筛合成的影响 | 第37-38页 |
| ·硅溶胶过渡层对离子筛合成的影响 | 第38-39页 |
| ·硅溶胶的制备 | 第39-40页 |
| ·硅溶胶反应的原理 | 第39页 |
| ·硅溶胶的制备 | 第39-40页 |
| ·硅溶胶过渡层制备的影响因素 | 第40-46页 |
| ·有无CTAB 对陶瓷管表面涂覆结果的影响 | 第40-42页 |
| ·硅溶胶稀释对陶瓷管表面涂覆结果的影响 | 第42-43页 |
| ·TEOS/H_2O 摩尔比对陶瓷管表面涂覆结果的影响 | 第43-44页 |
| ·硅溶胶涂覆次数对陶瓷管表面的影响 | 第44-46页 |
| ·硅溶胶涂覆陶瓷管后焙烧温度和焙烧速度的确定 | 第46页 |
| ·锂离子筛膜合成条件的影响因素及单气体渗透性能 | 第46-49页 |
| ·有过渡层的陶瓷管真空引晶种 | 第46-47页 |
| ·涂覆遍数的影响 | 第47-48页 |
| ·合成次数的影响 | 第48-49页 |
| ·小结 | 第49-51页 |
| 3 钾离子筛膜做过渡层制备锂离子筛膜 | 第51-63页 |
| ·实验部分 | 第51-55页 |
| ·实验原料和装置 | 第51页 |
| ·锂锰氧化物前躯体合成 | 第51-52页 |
| ·钾离子筛膜过渡层的合成 | 第52-53页 |
| ·钾离子筛合成的装置图 | 第52页 |
| ·高硅铝比钾离子筛膜过渡层的引入 | 第52-53页 |
| ·低硅铝比钾离子筛膜过渡层的合成 | 第53页 |
| ·钾离子筛膜过渡层法制备锂离子筛膜 | 第53页 |
| ·样品的表征 | 第53-55页 |
| ·溶液的pH 值调节 | 第53页 |
| ·化学成分分析 | 第53-54页 |
| ·结构和形貌表征 | 第54页 |
| ·常温下气体渗透表征 | 第54页 |
| ·离子渗透通量及选择性系数的测定 | 第54-55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-62页 |
| ·锂离子筛合成条件的确定 | 第55-56页 |
| ·高硅铝比钾离子筛膜对锂离子筛合成的影响 | 第55页 |
| ·低硅铝比钾离子筛膜对锂离子筛合成的影响 | 第55-56页 |
| ·高硅铝比钾离子筛膜做过渡层的制备 | 第56-57页 |
| ·低硅铝比钾离子筛膜做过渡层的制备 | 第57页 |
| ·低硅铝比钾离子筛膜过渡层法制备锂离子筛膜的影响因素 | 第57-60页 |
| ·低硅铝比钾离子筛膜做过渡层的合成次数对合成锂离子筛膜的影响 | 第57-59页 |
| ·锂离子筛膜合成次数的影响 | 第59-60页 |
| ·单组份气体渗透性能测试 | 第60-61页 |
| ·高硅铝比钾离子筛膜过渡层法制备锂离子筛膜 | 第61-62页 |
| ·小结 | 第62-63页 |
| 4 锂离子筛膜对溶液中离子的交换性能初探 | 第63-67页 |
| ·锂离子筛膜的渗透性能的研究 | 第63-65页 |
| ·锂离子筛膜的交换性能的研究 | 第65-66页 |
| ·小结 | 第66-67页 |
| 5 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 个人简历及发表的学术论文情况 | 第76页 |
