摘要 | 第1-4页 |
英文摘要 | 第4-10页 |
第一章 绪论 | 第10-34页 |
·晶体硅太阳电池 | 第11-14页 |
·单晶硅太阳电池 | 第12-13页 |
·多晶硅太阳电池 | 第13-14页 |
·晶体硅太阳电池的发展 | 第14页 |
·非晶硅太阳电池 | 第14-16页 |
·Ⅲ-Ⅴ族化合物太阳电池 | 第16-20页 |
·砷化镓基系太阳电池 | 第16-18页 |
·InP基系太阳电池 | 第18页 |
·Ⅲ-Ⅴ族化合物太阳电池的新概念 | 第18-20页 |
·Ⅱ-Ⅳ族和Ⅰ-Ⅲ-Ⅵ族多晶薄膜太阳电池 | 第20-26页 |
·铜铟硒薄膜太阳电池 | 第20-23页 |
·碲化镉薄膜太阳电池 | 第23-26页 |
·CdTe太阳电池窗口层CdS多晶薄膜的制备技术及特点 | 第26-29页 |
·化学池沉积法 | 第27页 |
·近空间升华法 | 第27-28页 |
·射频溅射沉积法 | 第28页 |
·高真空热蒸发法 | 第28-29页 |
·CdTe太阳电池的背接触 | 第29-32页 |
·CdTe薄膜与背电极的欧姆接触问题 | 第29-30页 |
·背接触材料 | 第30-32页 |
·论文研究目的和内容 | 第32-34页 |
·研究背景 | 第32页 |
·选题思路 | 第32-33页 |
·论文的研究内容及方案 | 第33-34页 |
第二章 硫化镉多晶薄膜的制备及表征 | 第34-56页 |
·引言 | 第34页 |
·CdS多晶薄膜的近空间升华制备及后处理 | 第34-41页 |
·近空间升华设备简介 | 第34-35页 |
·近空间升华原理 | 第35-36页 |
·CdS升华源的准备 | 第36-37页 |
·CdS多晶薄膜的制备 | 第37-40页 |
·升温曲线 | 第37-38页 |
·沉积条件与沉积速率的关系 | 第38-40页 |
·CdS多晶薄膜的后处理 | 第40-41页 |
·CdS多晶薄膜的性质表征 | 第41-54页 |
·CdS多晶薄膜的结构 | 第41-43页 |
·成分分析 | 第43-47页 |
·表面形貌 | 第47-50页 |
·光学性质 | 第50-53页 |
·电学性质 | 第53-54页 |
·小结 | 第54-56页 |
第三章 碲铜薄膜的制备及表征 | 第56-71页 |
·引言 | 第56页 |
·Cu_xTe薄膜的制备及后处理 | 第56-60页 |
·Cu_xTe薄膜的制备 | 第56-57页 |
·膜厚及沉积速率监控原理 | 第57-59页 |
·Cu_xTe薄膜的后处理 | 第59-60页 |
·Cu_xTe薄膜的性质表征 | 第60-69页 |
·Cu_xTe结构表征 | 第60-65页 |
·成分分析 | 第65-67页 |
·薄膜的表面形貌 | 第67-68页 |
·光学性质 | 第68-69页 |
·电学性质 | 第69页 |
·小结 | 第69-71页 |
第四章 干法制备的窗口层及背接触层在CdTe薄膜太阳电池中的应用 | 第71-90页 |
·引言 | 第71页 |
·太阳电池工作原理 | 第71-73页 |
·电池制备 | 第73-75页 |
·窗口层CdS多晶薄膜的制备及后处理 | 第74页 |
·吸收层CdTe薄膜的制备及后处理 | 第74-75页 |
·背接触层的制备及后处理 | 第75页 |
·背电极的制备 | 第75页 |
·CdS多晶薄膜对器件性能的影响 | 第75-81页 |
·暗态I-V特性及光谱响应 | 第76-78页 |
·结果与讨论 | 第78-81页 |
·Cu_xTe薄膜对器件性能的影响 | 第81-89页 |
·有无Cu_xTe背接触的CdTe电池的I-V特性 | 第81-86页 |
·不同Cu_xTe背接触层对电池性能的影响 | 第86-88页 |
·典型的Cu_xTe背接触太阳电池性能 | 第88-89页 |
·小结 | 第89-90页 |
第五章 CdTe太阳电池的器件模拟 | 第90-106页 |
·引言 | 第90页 |
·太阳电池基本方程及求解 | 第90-98页 |
·太阳电池基本方程 | 第90-92页 |
·电子和空穴浓度 | 第92页 |
·杂质能级和杂质带 | 第92-95页 |
·载流子产生与复合 | 第95-97页 |
·太阳电池基本方程求解 | 第97-98页 |
·CdTe薄膜太阳电池窗口层的器件模拟 | 第98-104页 |
·CdS多晶薄膜的厚度、载流子浓度及复合中心密度 | 第99-101页 |
·背接触层Cu_xTe的性质影响 | 第101-104页 |
·小结 | 第104-106页 |
第六章 总结 | 第106-110页 |
参考文献 | 第110-117页 |
发表的论文 | 第117-118页 |
参与的科研项目 | 第118-120页 |
致谢 | 第120页 |