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CdS、Cu_xTe薄膜的制备、表征和应用

摘要第1-4页
英文摘要第4-10页
第一章 绪论第10-34页
   ·晶体硅太阳电池第11-14页
     ·单晶硅太阳电池第12-13页
     ·多晶硅太阳电池第13-14页
     ·晶体硅太阳电池的发展第14页
   ·非晶硅太阳电池第14-16页
   ·Ⅲ-Ⅴ族化合物太阳电池第16-20页
     ·砷化镓基系太阳电池第16-18页
     ·InP基系太阳电池第18页
     ·Ⅲ-Ⅴ族化合物太阳电池的新概念第18-20页
   ·Ⅱ-Ⅳ族和Ⅰ-Ⅲ-Ⅵ族多晶薄膜太阳电池第20-26页
     ·铜铟硒薄膜太阳电池第20-23页
     ·碲化镉薄膜太阳电池第23-26页
   ·CdTe太阳电池窗口层CdS多晶薄膜的制备技术及特点第26-29页
     ·化学池沉积法第27页
     ·近空间升华法第27-28页
     ·射频溅射沉积法第28页
     ·高真空热蒸发法第28-29页
   ·CdTe太阳电池的背接触第29-32页
     ·CdTe薄膜与背电极的欧姆接触问题第29-30页
     ·背接触材料第30-32页
   ·论文研究目的和内容第32-34页
     ·研究背景第32页
     ·选题思路第32-33页
     ·论文的研究内容及方案第33-34页
第二章 硫化镉多晶薄膜的制备及表征第34-56页
   ·引言第34页
   ·CdS多晶薄膜的近空间升华制备及后处理第34-41页
     ·近空间升华设备简介第34-35页
     ·近空间升华原理第35-36页
     ·CdS升华源的准备第36-37页
     ·CdS多晶薄膜的制备第37-40页
       ·升温曲线第37-38页
       ·沉积条件与沉积速率的关系第38-40页
     ·CdS多晶薄膜的后处理第40-41页
   ·CdS多晶薄膜的性质表征第41-54页
     ·CdS多晶薄膜的结构第41-43页
     ·成分分析第43-47页
     ·表面形貌第47-50页
     ·光学性质第50-53页
     ·电学性质第53-54页
   ·小结第54-56页
第三章 碲铜薄膜的制备及表征第56-71页
   ·引言第56页
   ·Cu_xTe薄膜的制备及后处理第56-60页
     ·Cu_xTe薄膜的制备第56-57页
     ·膜厚及沉积速率监控原理第57-59页
     ·Cu_xTe薄膜的后处理第59-60页
   ·Cu_xTe薄膜的性质表征第60-69页
     ·Cu_xTe结构表征第60-65页
     ·成分分析第65-67页
     ·薄膜的表面形貌第67-68页
     ·光学性质第68-69页
     ·电学性质第69页
   ·小结第69-71页
第四章 干法制备的窗口层及背接触层在CdTe薄膜太阳电池中的应用第71-90页
   ·引言第71页
   ·太阳电池工作原理第71-73页
   ·电池制备第73-75页
     ·窗口层CdS多晶薄膜的制备及后处理第74页
     ·吸收层CdTe薄膜的制备及后处理第74-75页
     ·背接触层的制备及后处理第75页
     ·背电极的制备第75页
   ·CdS多晶薄膜对器件性能的影响第75-81页
     ·暗态I-V特性及光谱响应第76-78页
     ·结果与讨论第78-81页
   ·Cu_xTe薄膜对器件性能的影响第81-89页
     ·有无Cu_xTe背接触的CdTe电池的I-V特性第81-86页
     ·不同Cu_xTe背接触层对电池性能的影响第86-88页
     ·典型的Cu_xTe背接触太阳电池性能第88-89页
   ·小结第89-90页
第五章 CdTe太阳电池的器件模拟第90-106页
   ·引言第90页
   ·太阳电池基本方程及求解第90-98页
     ·太阳电池基本方程第90-92页
     ·电子和空穴浓度第92页
     ·杂质能级和杂质带第92-95页
     ·载流子产生与复合第95-97页
     ·太阳电池基本方程求解第97-98页
   ·CdTe薄膜太阳电池窗口层的器件模拟第98-104页
     ·CdS多晶薄膜的厚度、载流子浓度及复合中心密度第99-101页
     ·背接触层Cu_xTe的性质影响第101-104页
   ·小结第104-106页
第六章 总结第106-110页
参考文献第110-117页
发表的论文第117-118页
参与的科研项目第118-120页
致谢第120页

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