| 引言 | 第1-7页 |
| 第一章 文献综述 | 第7-21页 |
| ·巨磁电阻效应 | 第7-12页 |
| ·多层膜的巨磁电阻 | 第7-8页 |
| ·自旋阀结构的巨磁电阻 | 第8-12页 |
| ·交换偏置(exchange bias)的研究进展 | 第12-19页 |
| ·交换偏置的机制 | 第13-15页 |
| ·影响交换偏置的因素 | 第15-18页 |
| ·常用反铁磁材料 | 第18-19页 |
| 参考文献 | 第19-21页 |
| 第二章 样品的制备和分析测试原理 | 第21-29页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第21-23页 |
| ·磁控溅射原理 | 第21-23页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第23页 |
| ·薄膜的分析测试原理 | 第23-28页 |
| ·磁性能测量 | 第23-25页 |
| ·磁电阻效应的四探针法测量 | 第25-26页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第26-27页 |
| ·基片洗涤方法 | 第27页 |
| ·本实验采用的实验设备 | 第27-28页 |
| 参考文献 | 第28-29页 |
| 第三章 PtMn钉扎体系的研究 | 第29-44页 |
| ·NiFe／PtMn双层膜的交换偏置对PtMn层厚度和Mn成分的依赖 | 第29-33页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·实验 | 第29-30页 |
| ·实验结果与分析 | 第30-33页 |
| ·小结 | 第33页 |
| ·不同Pt和Mn单层膜厚度对[Pt／Mn]_n多层膜体系交换偏置的影响 | 第33-39页 |
| ·引言 | 第33-34页 |
| ·实验 | 第34页 |
| ·结果与分析 | 第34-38页 |
| ·界面插入Pt对PtMn钉扎体系交换偏置和磁性的影响 | 第38-39页 |
| ·小结 | 第39页 |
| ·不同缓冲层和保护层对PtMn／NiFe双层膜的结构和磁性的影响 | 第39-44页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·实验 | 第39-40页 |
| ·实验结果与分析 | 第40-43页 |
| ·结论 | 第43-44页 |
| 总结 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-47页 |
| 致谢 | 第47页 |
