摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
1. 绪论 | 第9-25页 |
1.1 引言 | 第9页 |
1.2 物质的基本磁性特点 | 第9-14页 |
1.2.1 顺磁性 | 第11-12页 |
1.2.2 抗磁性 | 第12页 |
1.2.3 磁化率 | 第12-13页 |
1.2.4 磁场力 | 第13页 |
1.2.5 磁各向异性 | 第13-14页 |
1.3 强磁场在材料科学中的运用 | 第14-18页 |
1.3.1 引言 | 第14页 |
1.3.2 强磁场取向研究 | 第14-18页 |
1.4 固态相变中强磁场的影响 | 第18-19页 |
1.5 强磁场控制流体流动的研究 | 第19-20页 |
1.5.1 引言 | 第19页 |
1.5.2 强磁场抑制流体流动作用 | 第19页 |
1.5.3 强磁场抑制导电流体流动对溶质分布的影响 | 第19-20页 |
1.5.4 强磁场控制流体流动对传热的影响 | 第20页 |
1.6 强磁场对金属凝固点的影响 | 第20-22页 |
1.7 过共晶铝硅概况 | 第22-23页 |
1.7.1 过共晶铝硅合金的组织和力学性能 | 第22-23页 |
1.8 本文研究目的与主要内容 | 第23-25页 |
2 实验研究过程 | 第25-30页 |
2.1 引言 | 第25页 |
2.2 实验仪器设备结构 | 第25-27页 |
2.2.1 磁场装置 | 第25-26页 |
2.2.2 强磁场内部强度梯度分布 | 第26-27页 |
2.2.3 加热炉 | 第27页 |
2.2.4 其他辅助设备 | 第27页 |
2.3 试样制备 | 第27页 |
2.4 实验过程 | 第27-28页 |
2.5 实验分析手段 | 第28-30页 |
2.5.1 金相分析 | 第28页 |
2.5.2 X射线衍射仪对物质的相分析 | 第28-29页 |
2.5.3 扫描电子显微镜 | 第29-30页 |
3. 实验结果及分析 | 第30-48页 |
3.1 引言 | 第30页 |
3.2 不同实验条件下试样晶相组织比较 | 第30-33页 |
3.2.1 600℃下施加磁场与否对试样的影响 | 第30-31页 |
3.2.2 650℃下施加磁场与否对试样的影响 | 第31-33页 |
3.3 实验结果分析 | 第33-41页 |
3.3.1 晶粒组织细化的研究分析 | 第33-35页 |
3.3.2 初生硅排布发生改变的分析 | 第35-40页 |
3.3.3 不同温度下磁场效果比较 | 第40-41页 |
3.3.4 小结 | 第41页 |
3.4 扫描电子观察微观形貌分析 | 第41-43页 |
3.5 凝固组织 XRD分析 | 第43-48页 |
3.5.1 引言 | 第43页 |
3.5.2 600℃下凝固的XRD衍射分析 | 第43-44页 |
3.5.3 650℃下凝固的XRD衍射分析 | 第44-45页 |
3.5.4 取向机制讨论 | 第45-46页 |
3.5.5 不同温度下取向情况比较 | 第46页 |
3.5.6 取向程度计算 | 第46-48页 |
4. 结论与展望 | 第48-49页 |
参考文献 | 第49-51页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第51-52页 |
致谢 | 第52-53页 |
大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第53页 |