| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 引言 | 第10-11页 |
| 1 文献综述 | 第11-25页 |
| 1．1 铝阳极氧化膜 | 第11-16页 |
| 1．1．1 氧化膜的类型 | 第11-12页 |
| 1．1．2 阳极氧化膜的形成机理 | 第12-13页 |
| 1．1．3 阳极氧化膜的结构 | 第13-14页 |
| 1．1．4 阳极氧化膜形态与介质的关系 | 第14页 |
| 1．1．5 阳极氧化膜孔洞的成因 | 第14-16页 |
| 1．2 阳极氧化膜的制备 | 第16-19页 |
| 1．2．1 氧化膜制备的工艺 | 第16-17页 |
| 1．2．2 氧化膜的剥离 | 第17-18页 |
| 1．2．3 阳极氧化膜厚度的测定 | 第18-19页 |
| 1．3 阳极氧化膜的腐蚀行为 | 第19-20页 |
| 1．4 铝阳极氧化膜在制备纳米材料方面的应用 | 第20-23页 |
| 1．4．1 一维纳米材料的模板制备方法 | 第20-21页 |
| 1．4．2 电沉积法在模板中合成纳米线阵列 | 第21-22页 |
| 1．4．3 利用阳极氧化铝模板制备纳米线的研究现状 | 第22-23页 |
| 1．5 选题意义及研究内容介绍 | 第23-25页 |
| 2 铝阳极氧化膜极限厚度及氧化膜腐蚀行为的研究 | 第25-41页 |
| 2．1 实验条件 | 第25-28页 |
| 2．1．1 铝阳极氧化膜的制备 | 第25-27页 |
| 2．1．2 电化学方法测试 | 第27-28页 |
| 2．2 实验内容与方法 | 第28-29页 |
| 2．2．1 恒电压时电流随时间的变化规律 | 第28页 |
| 2．2．2 氧化膜厚度的变化规律及影响膜厚因素的探讨 | 第28-29页 |
| 2．2．3 铝阳极氧化膜的表征 | 第29页 |
| 2．2．4 铝阳极氧化膜腐蚀行为的研究 | 第29页 |
| 2．3 结果与讨论 | 第29-40页 |
| 2．3．1 恒压氧化下电流密度随氧化时间的变化 | 第29-30页 |
| 2．3．2 阳极氧化膜厚度变化的规律 | 第30-33页 |
| 2．3．3 铝阳极氧化膜的表征 | 第33-36页 |
| 2．3．4 铝阳极氧化膜腐蚀行为的电化学方法研究 | 第36-40页 |
| 2．4 本章小结 | 第40-41页 |
| 3 铝阳极氧化膜模板中交流电沉积组装镍纳米线 | 第41-64页 |
| 3．1 实验条件 | 第41-43页 |
| 3．1．1 实验仪器 | 第41页 |
| 3．1．2 工艺流程 | 第41-43页 |
| 3．2 实验内容与方法 | 第43-46页 |
| 3．2．1 交流电沉积时电流密度随时间的变化 | 第43页 |
| 3．2．2 铝阳极氧化膜孔内电沉积速度的影响因素 | 第43页 |
| 3．2．3 AAO模板中镍沉积量的交流阻抗测试 | 第43-44页 |
| 3．2．4 镍纳米线的电子探针(EPMA)表征 | 第44-45页 |
| 3．2．5 镍纳米线的透射电镜(TEM)表征 | 第45页 |
| 3．2．6 镍纳米线微观结构的XRD表征 | 第45页 |
| 3．2．7 镍纳米线阵列的垂直磁记录特性 | 第45-46页 |
| 3．3 实验结果与讨论 | 第46-62页 |
| 3．3．1 交流电沉积时电流密度随时间的变化 | 第46-47页 |
| 3．3．2 铝阳极氧化膜孔内电沉积速度的影响因素 | 第47-52页 |
| 3．3．3 AAO模板中镍沉积量的EIS测试 | 第52-55页 |
| 3．3．4 镍纳米线的EPMA表征 | 第55-58页 |
| 3．3．5 镍纳米线的TEM表征 | 第58-59页 |
| 3．3．6 镍纳米线微观结构的XRD表征 | 第59-61页 |
| 3．3．7 镍纳米线阵列的垂直磁记录特性 | 第61-62页 |
| 3．4 本章小结 | 第62-64页 |
| 4 铝阳极氧化膜膜孔内交流电沉积镍的机理探讨 | 第64-73页 |
| 4．1 实验方法 | 第64-65页 |
| 4．1．1 实验仪器 | 第64页 |
| 4．1．2 铝阳极氧化膜的制备 | 第64-65页 |
| 4．1．3 交流电沉积实验 | 第65页 |
| 4．2 实验内容与方法 | 第65-66页 |
| 4．2．1 Al／Al_2O_3界面的I-U曲线 | 第65-66页 |
| 4．2．2 交流电沉积过程中电位波形的监测 | 第66页 |
| 4．2．3 交流电时镍沉积机理的探讨 | 第66页 |
| 4．3 结果与讨论 | 第66-72页 |
| 4．3．1 Al／Al_2O_3界面的I-U曲线 | 第66-68页 |
| 4．3．2 交流电沉积过程中电位波形的监测 | 第68-70页 |
| 4．3．3 交流电时镍沉积机理的探讨 | 第70-72页 |
| 4．4 本章小结 | 第72-73页 |
| 5 膜孔有序、孔径均一的AAO模板的制备 | 第73-80页 |
| 5．1 实验方法 | 第73-75页 |
| 5．1．1 实验仪器 | 第73页 |
| 5．1．2 实验装置 | 第73-74页 |
| 5．1．3 工艺流程 | 第74-75页 |
| 5．2 实验内容 | 第75页 |
| 5．3 结果与讨论 | 第75-79页 |
| 5．3．1 阳极氧化电压对氧化膜阻挡层厚度的影响 | 第75-76页 |
| 5．3．2 电解液不同时对AAO模板的影响 | 第76页 |
| 5．3．3 AAO模板的表征 | 第76-78页 |
| 5．3．4 高度有序的铝阳极氧化膜制备的原理 | 第78-79页 |
| 5．4 本章小结 | 第79-80页 |
| 结论 | 第80-82页 |
| 参考文献 | 第82-85页 |
| 附录A 金相显微镜下硫酸阳极氧化膜的照片(×400) | 第85页 |
| 附录B 逆电解法剥离氧化膜时电流与氧化电压的关系 | 第85-86页 |
| 附录C 二极管的伏安特性曲线 | 第86页 |
| 附录D 二极管测试回路(a正向测试回路；b反向测试回路) | 第86-87页 |
| 附录E：论文使用的主要符号的意义和单位 | 第87-88页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第88-89页 |
| 致谢 | 第89-90页 |
| 大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第90页 |
