微球覆层厚度无损测定方法研究
| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-14页 |
| 1 绪论 | 第14-26页 |
| ·覆层厚度测量方法 | 第14-18页 |
| ·磁法 | 第15页 |
| ·涡流法 | 第15-16页 |
| ·射线法 | 第16页 |
| ·光学法 | 第16-17页 |
| ·阳极溶解库仑法 | 第17-18页 |
| ·化学溶解法 | 第18页 |
| ·其他方法 | 第18页 |
| ·测量误差与数据处理 | 第18-24页 |
| ·测量误差 | 第18-20页 |
| ·误差理论 | 第20-23页 |
| ·数据处理步骤 | 第23-24页 |
| ·课题的意义和研究内容 | 第24-26页 |
| ·课题的意义 | 第24-25页 |
| ·课题的研究内容 | 第25-26页 |
| 2 X 射线衍射法测量平板试样化学镀镀层厚度 | 第26-54页 |
| ·基本原理 | 第26-31页 |
| ·基体衍射法 | 第26-28页 |
| ·覆层衍射法 | 第28-29页 |
| ·多级衍射法 | 第29-31页 |
| ·基体衍射法测量化学镀镀层厚度 | 第31-51页 |
| ·化学镀 | 第31-32页 |
| ·试样的制备 | 第32-33页 |
| ·断面显微镜测量 | 第33-38页 |
| ·基体衍射法测量 | 第38-44页 |
| ·基体衍射法测量的影响因素 | 第44-51页 |
| ·小结 | 第51-54页 |
| 3 基体衍射法测量微球镀层厚度的计算机模拟 | 第54-70页 |
| ·微球试样的X 射线衍射 | 第54-62页 |
| ·平板试样X 射线衍射强度的理论计算 | 第54-55页 |
| ·微球X 射线衍射强度的理论计算 | 第55-60页 |
| ·微球X 射线衍射强度的影响因素 | 第60-62页 |
| ·基体衍射法测量微球镀层厚度 | 第62-67页 |
| ·带镀层微球X 射线衍射强度的理论计算 | 第62-65页 |
| ·镀层厚度修正量t_(mdb)的影响因素 | 第65-67页 |
| ·小结 | 第67-70页 |
| 4 X 射线荧光法测量平板试样镀层厚度 | 第70-86页 |
| ·基本原理 | 第70-73页 |
| ·一次荧光强度的计算 | 第70-72页 |
| ·基体荧光X 射线法 | 第72页 |
| ·覆层荧光X 射线法 | 第72-73页 |
| ·基体荧光X 射线法测量镀层厚度 | 第73-79页 |
| ·基体荧光X 射线法测量化学镀镀层厚度 | 第73-75页 |
| ·基体荧光X 射线法测量的影响因素 | 第75-79页 |
| ·覆层荧光X 射线法测量镀层厚度 | 第79-85页 |
| ·覆层荧光X 射线法测量化学镀镀层厚度 | 第79-81页 |
| ·覆层荧光X 射线法测量的影响因素 | 第81-85页 |
| ·小结 | 第85-86页 |
| 5 X 射线荧光法测量微球覆层厚度计算机模拟 | 第86-104页 |
| ·微球试样一次荧光强度的计算 | 第86-91页 |
| ·微球试样一次荧光强度的理论计算 | 第86-88页 |
| ·微球一次荧光强度的影响因素 | 第88-91页 |
| ·基体荧光X 射线法测量微球覆层厚度 | 第91-97页 |
| ·带镀层微球荧光X 射线强度的理论计算 | 第91-94页 |
| ·微球覆层厚度修正量t_(mfb)的影响因素 | 第94-97页 |
| ·覆层荧光X 射线法测量微球覆层厚度 | 第97-102页 |
| ·覆层元素一次X 射线荧光强度计算 | 第97-100页 |
| ·微球覆层厚度修正量t_(mfc)的影响因素 | 第100-102页 |
| ·小结 | 第102-104页 |
| 6 结论与建议 | 第104-110页 |
| ·四种测量方法的比较 | 第104-106页 |
| ·用于测量平板试样覆层厚度 | 第104-105页 |
| ·用于测量微球覆层厚度 | 第105-106页 |
| ·结论 | 第106-108页 |
| ·问题与建议 | 第108-110页 |
| 致谢 | 第110-112页 |
| 参考文献 | 第112-118页 |
| 附录A 作者在攻读硕士学位期间发表论文情况 | 第118-120页 |
| 附录B 文中所编程序主要源代码 | 第120-138页 |
| 独创性声明 | 第138页 |
| 学位论文版权使用授权书 | 第138页 |
