| 中文摘要 | 第1-8页 |
| 英文摘要 | 第8-10页 |
| 第1章 光固化涂料和受阻胺哌啶衍生物(HAPD)的研究进展 | 第10-43页 |
| ·光固化涂料的研究进展 | 第10-19页 |
| ·外光固化涂料的特点 | 第10页 |
| ·光固化涂料的组分 | 第10-17页 |
| ·齐聚物 | 第11-13页 |
| ·环氧有机硅光敏齐聚物 | 第11-12页 |
| ·水性齐聚物 | 第12页 |
| ·混杂齐聚物 | 第12页 |
| ·超枝化齐聚物 | 第12-13页 |
| ·单体 | 第13页 |
| ·光引发剂 | 第13-15页 |
| ·水性光引发剂 | 第13页 |
| ·阳离子型光引发剂 | 第13-14页 |
| ·复合型光引发剂 | 第14页 |
| ·混杂型光引发剂 | 第14-15页 |
| ·高分子型光引发剂 | 第15页 |
| ·助剂和改性树脂 | 第15-17页 |
| ·用于光固化涂料的有机硅氧烷树脂 | 第15-16页 |
| ·用于光固化涂料的含氟树脂 | 第16-17页 |
| ·光固化涂料的应用 | 第17-18页 |
| ·木器涂料 | 第17页 |
| ·塑料涂料 | 第17页 |
| ·金属涂料 | 第17页 |
| ·纸张涂料 | 第17页 |
| ·光纤涂料 | 第17页 |
| ·其他涂料 | 第17-18页 |
| ·光固化涂料需解决的问题及其发展前景 | 第18-19页 |
| ·稳定氮氧自由基和活性自由基聚合研究进展 | 第19-37页 |
| ·受阻胺光稳定剂(HALS) | 第20-25页 |
| ·HALS的合成 | 第20页 |
| ·光稳定化机理 | 第20-23页 |
| ·光稳定化效率 | 第23-25页 |
| ·稳定氮氧自由基调控的可控／“活性”自由基聚合 | 第25-31页 |
| ·稳定自由基(TEMPO)的种类和合成 | 第25-26页 |
| ·TEMPO在可控／“活性”自由基聚合中的应用 | 第26-31页 |
| ·TEMPO调控的可控／“活性”自由基聚合研究进展 | 第26-28页 |
| ·TEMPO调控的引发控制体系 | 第28-29页 |
| ·以TEMPO为控制介质的可控聚合机理 | 第29-31页 |
| ·TEMPO调控下的可控自由基光聚合的探索 | 第31-36页 |
| ·HAPD光氧化转变成TEMPO的机理 | 第31-34页 |
| ·可控自由基光聚合的探索 | 第34-36页 |
| ·Monte Carlo算法模拟可控自由基聚合的研究进展 | 第36-37页 |
| ·Monte Carlo算法简介 | 第36页 |
| ·Monte Carlo算法在模拟可控自由基聚合的研究进展 | 第36-37页 |
| ·本论文的目的、意义以及思路 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-43页 |
| 第2章 环氧丙烯酸酯／乙烯基醚光固化涂料的动力学研究 | 第43-56页 |
| ·前言 | 第43-44页 |
| ·低聚物 | 第43页 |
| ·活性稀释剂 | 第43-44页 |
| ·光引发剂 | 第44页 |
| ·实验 | 第44-45页 |
| ·主要试剂 | 第44-45页 |
| ·环氧丙烯酸酯／乙烯基醚体系的光固化动力学 | 第45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-55页 |
| ·阳离子引发体系 | 第45-50页 |
| ·固化机理 | 第45-46页 |
| ·引发剂浓度对聚合速率和转化率的影响 | 第46-47页 |
| ·聚合温度对转化率和聚合速率的影响 | 第47-48页 |
| ·活性稀释剂用量对转化率的影响 | 第48-50页 |
| ·自由基引发体系 | 第50-52页 |
| ·聚合温度对转化率和聚合速率的影响 | 第50-51页 |
| ·活性稀释剂用量对转化率的影响 | 第51-52页 |
| ·自由基／阳离子混杂引发体系 | 第52-55页 |
| ·本章小结 | 第55页 |
| 参考文献 | 第55-56页 |
| 第3章 环氧丙烯酸酯／烯丙基醚体系光固化动力学初探 | 第56-65页 |
| ·前言 | 第56-57页 |
| ·实验部分 | 第57页 |
| ·主要试剂 | 第57页 |
| ·环氧丙烯酸酯／乙烯基醚体系的光固化动力学 | 第57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-63页 |
| ·烯丙基醚的反应机理 | 第57-58页 |
| ·聚合温度的影响 | 第58-60页 |
| ·稀释剂用量的影响 | 第60-61页 |
| ·自由基／阳离子混杂引发体系的影响 | 第61-63页 |
| ·本章小结 | 第63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |
| 第4章 聚合物涂层的光固化动力学及其原位光稳定化研究 | 第65-81页 |
| ·前言 | 第65-66页 |
| ·实验部分 | 第66-68页 |
| ·主要试剂 | 第66页 |
| ·r-HAPD的合成方法与产物纯化 | 第66-67页 |
| ·用于光氧化实验的光固化涂层的制备 | 第67-68页 |
| ·光氧化实验 | 第68页 |
| ·结果与讨论 | 第68-73页 |
| ·r-HALS对阳离子型光固化体系双键转化率的影响 | 第69-70页 |
| ·r-HALS对自由基型光固化体系双键转化率的影响 | 第70-71页 |
| ·r-HALS对自由基／阳离子混杂体系双键转化率的影响 | 第71-73页 |
| ·光固化涂层的光稳定化 | 第73-78页 |
| ·活性稀释剂种类对光稳定化影响的比较 | 第74-76页 |
| ·不同的HALS光防护效果的比较 | 第76-77页 |
| ·r-HALS与商用HALS光防护效果的比较 | 第77-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-81页 |
| 第5章 活性自由基光聚合的Monte Carlo模拟 | 第81-102页 |
| ·引言 | 第81页 |
| ·基元反应和Monte Carlo模型 | 第81-85页 |
| ·模拟与讨论 | 第85-97页 |
| ·利用Monte Carlo考察反应的微观变化 | 第86-87页 |
| ·单体引发生成r-TEMPO的速率常数的影响 | 第87-88页 |
| ·引发速率常数的影响 | 第88-90页 |
| ·链聚合速率和链终止速率的影响 | 第90-92页 |
| ·氧气浓度和引发剂数量的影响 | 第92-97页 |
| ·模拟结果与实验结果比较 | 第97-99页 |
| ·氧气的阻聚效应 | 第97页 |
| ·Lg([M]_0／[M])与t的线性关系 | 第97-98页 |
| ·分子量和多分散性系数与转化率的关系 | 第98-99页 |
| ·本章小结 | 第99-100页 |
| 参考文献 | 第100-102页 |
| 附录 | 第102-103页 |
| 致谢语 | 第103页 |
