第1章 绪论 | 第1-17页 |
·抗菌材料的发展 | 第7-8页 |
·抗菌材料的分类、特点与制备 | 第8-15页 |
·有机抗菌剂 | 第9-10页 |
·无机抗菌剂 | 第10-14页 |
·光催化抗菌剂 | 第14-15页 |
·课题研究的目的、内容及意义 | 第15-17页 |
·研究意义 | 第15页 |
·研究目的、内容 | 第15-17页 |
第2章 理论基础部分 | 第17-25页 |
·吸附机理 | 第17-21页 |
·表面吸附 | 第17页 |
·离子交换吸附 | 第17-19页 |
·专属吸附 | 第19页 |
·吸附等温式 | 第19-20页 |
·单分子层吸附理论与吸附等温式 | 第20-21页 |
·抗菌剂作用机理 | 第21-23页 |
·抗菌剂的作用机制 | 第21-22页 |
·抗菌剂的动力学描述 | 第22-23页 |
·抗菌药物释放机理 | 第23-25页 |
·药物来源于载体 | 第23-24页 |
·药物来源于光催化 | 第24-25页 |
第3章 新型抗菌层状硅酸盐的合成实验及抗菌性能研究 | 第25-51页 |
·合成实验 | 第25-38页 |
·原材料选择 | 第25-29页 |
·合成工艺路线与方法 | 第29页 |
·合成影响因素初步确定 | 第29-30页 |
·多因素正交实验 | 第30-34页 |
·抗菌层状硅酸盐磁化学合成 | 第34-37页 |
·合成实验小结 | 第37-38页 |
·抗菌性能研究 | 第38-51页 |
·灭菌率 | 第38-44页 |
·抑菌圈试验 | 第44-46页 |
·最小抑菌浓度试验 | 第46-47页 |
·防霉菌试验 | 第47-48页 |
·稳定性试验 | 第48-49页 |
·静态释放试验 | 第49-51页 |
第4章 抗菌粉体的结构表征 | 第51-60页 |
·抗菌粉体结构测试 | 第51-52页 |
·X射线衍射(XRD) | 第51页 |
·扫描电镜(SEM) | 第51-52页 |
·红外光谱(IR) | 第52页 |
·测试结果分析 | 第52-60页 |
·X射线衍射(XRD)表征与分析 | 第52-54页 |
·扫描电镜形貌分析 | 第54-57页 |
·红外光谱分析 | 第57-60页 |
第5章 相关机理的探讨 | 第60-64页 |
·抗菌层状硅酸盐合成机理的探讨 | 第60-62页 |
·磁化学合成机理的探讨 | 第62页 |
·抗菌机理的探讨 | 第62-64页 |
第6章 结论 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-68页 |
致谢 | 第68-69页 |
附录 | 第69页 |