纳米二氧化钛光催化降解吡啶及其衍生物的研究
第一章 绪论 | 第1-16页 |
·光催化技术的基础研究 | 第8-10页 |
·高活性催化剂的制备 | 第10-12页 |
·TIO_2光催化技术的应用研究 | 第12-14页 |
·吡啶及其衍生物的危害 | 第14-15页 |
·本文所作工作 | 第15-16页 |
第二章 实验部分 | 第16-20页 |
·实验仪器与试剂 | 第16页 |
·实验测定方法 | 第16-17页 |
·纳米二氧化钛的制备 | 第17-18页 |
·光催化降解实验 | 第18页 |
·膨胀珍珠岩、硅胶、三氧化二铝负载TIO_2 | 第18-20页 |
·溶胶的制备 | 第18-19页 |
·负载过程 | 第19-20页 |
第三章 TIO_2的制备及表征 | 第20-27页 |
·溶胶-凝胶法 | 第20-21页 |
·水热沉淀法 | 第21-23页 |
·钛酸四丁酯水解法 | 第23页 |
·TIO_2的XRD表征 | 第23-25页 |
·焙烧温度对TIO_2晶形的影响 | 第25-27页 |
第四章 TIO_2光催化降解吡啶 | 第27-37页 |
·空白对照实验 | 第27页 |
·催化剂用量的影响 | 第27-28页 |
·降解动力学 | 第28-33页 |
·光照强度的影响 | 第33页 |
·pH值的影响 | 第33-34页 |
·降解体系的紫外吸收光谱 | 第34-35页 |
·氨氮的生成 | 第35-37页 |
第五章 TIO_2光催化降解吡啶衍生物 | 第37-43页 |
·空白对照实验 | 第37页 |
·喹啉的降解 | 第37-38页 |
·8-羟基喹啉降解 | 第38-39页 |
·苯并三氮唑的降解 | 第39-41页 |
·2-2’联吡啶的降解 | 第41-43页 |
第六章 TIO_2的固定及应用 | 第43-60页 |
·AL_2O_3负载TIO_2 | 第43-46页 |
·载体对催化剂性能的影响 | 第43-45页 |
·催化剂的用量 | 第45页 |
·催化剂性能比较 | 第45-46页 |
·SIO_2负载TIO_2 | 第46-50页 |
·SiO_2的制取 | 第46页 |
·SiO_2载体的的影响 | 第46-47页 |
·浸渍次数的影响 | 第47-48页 |
·催化剂用量 | 第48-49页 |
·降解体系的紫外吸收光谱 | 第49页 |
·催化剂性能比较 | 第49-50页 |
·膨胀珍珠岩负载TIO_2 | 第50-53页 |
·膨胀珍珠岩简介 | 第50页 |
·浸渍次数的影响 | 第50-51页 |
·催化剂用量的影响 | 第51页 |
·催化剂寿命 | 第51-52页 |
·催化剂再生 | 第52-53页 |
·日光降解吡啶及其衍生物 | 第53-60页 |
·空白对照实验 | 第54页 |
·吡啶的降解 | 第54-55页 |
·喹啉的降解 | 第55-56页 |
·8-羟基喹啉的降解 | 第56-57页 |
·苯并三氮唑的降解 | 第57-58页 |
·2-2’联吡啶的降解 | 第58-60页 |
结论 | 第60-62页 |
参考文献 | 第62-69页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第69-70页 |
致谢 | 第70页 |