| 第一章 光纤通信概述 | 第1-26页 |
| 1．1 光通信的发展及展望 | 第5-13页 |
| 1．1．1 光通信的概况 | 第5-6页 |
| 1．1．2 波分复用系统 | 第6-8页 |
| 1．1．3 波分复用系统中的关键器件 | 第8-12页 |
| 1．1．4 光通信的未来——全光网络 | 第12-13页 |
| 1．2 波分复用器件概况 | 第13-21页 |
| 1．2．1 不同的波分复用器的实现形式 | 第13-19页 |
| 1．2．2 不同波分复用器技术的比较 | 第19-20页 |
| 1．2．3 波分复用器件发展展望 | 第20-21页 |
| 1．3 本文工作 | 第21-22页 |
| 参考文献 | 第22-26页 |
| 第二章 蚀刻衍射光栅的设计模拟 | 第26-54页 |
| 2．1 蚀刻衍射光栅波分复用器件的设计 | 第26-30页 |
| 2．1．1 基本原理 | 第26-27页 |
| 2．1．2 蚀刻衍射光栅波分复用器几何结构的设计 | 第27-30页 |
| 2．2 蚀刻衍射光栅波分复用器件的模拟 | 第30-46页 |
| 2．2．1 有效折射率法 | 第30-33页 |
| 2．2．2 标量衍射理论的模拟模型 | 第33-37页 |
| 2．2．3 BPM的模拟计算方法 | 第37-46页 |
| 2．3 平场输入／输出蚀刻衍射光栅的设计模拟 | 第46-52页 |
| 2．3．1 平场输入／输出蚀刻衍射光栅的设计 | 第46-48页 |
| 2．3．2 平场输入／输出蚀刻衍射光栅的模拟 | 第48-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 第三章 蚀刻衍射光栅器件的工艺制作 | 第54-84页 |
| 3．1 光波导材料和制备工艺 | 第54-62页 |
| 3．1．1 光波导材料概述 | 第54-56页 |
| 3．1．2 Si基SiO_2光波导材料的制备方法 | 第56-61页 |
| 3．1．3 SiO_2蚀刻衍射光栅波分复用器的制作过程 | 第61-62页 |
| 3．2 等离子体增强化学气相沉积（PECVD）原理 | 第62-67页 |
| 3．2．1 化学汽相沉积（CVD）的基本原理 | 第62-64页 |
| 3．2．2 等离子体增强化学气相沉积技术（PECVD） | 第64-65页 |
| 3．2．3 PECVD系统 | 第65-67页 |
| 3．3 薄膜性能检测 | 第67-68页 |
| 3．4 淀积高性能厚SiO_2薄膜的研究 | 第68-79页 |
| 3．4．1 实验条件 | 第68-69页 |
| 3．4．2 实验结果 | 第69-75页 |
| 3．4．3 讨论 | 第75-78页 |
| 3．4．4 结论 | 第78-79页 |
| 3．5 后续制作工艺 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-84页 |
| 第四章 总结 | 第84-86页 |
| 致谢 | 第86页 |
