| 英文摘要 | 第1-4页 |
| 中文摘要 | 第4-8页 |
| 绪言 方酸染料研究概况 | 第8-11页 |
| 0．1 方酸染料研究背景 | 第8-11页 |
| 0．2 方酸染料研究前景 | 第11页 |
| References | 第11-14页 |
| 第一章 光导性 | 第14-33页 |
| 第一节 方酸染料的结构和光导性的从头算、密度泛函和半经验方法研究 | 第14-23页 |
| 1．1．1 引言 | 第14-15页 |
| 1．1．2 计算模型和计算方法 | 第15-16页 |
| 1．1．3 几何构型 | 第16-18页 |
| 1．1．4 净电荷分布 | 第18-19页 |
| 1．1．5 分子内电荷转移 | 第19-23页 |
| 1．1．6 结论 | 第23页 |
| References | 第23-25页 |
| 第二节 不对称方酸染料的电子结构与光导性的从头算研究 | 第25-31页 |
| 1．2．1 引言 | 第25页 |
| 1．2．2 计算方法 | 第25-26页 |
| 1．2．3 分子内电荷转移 | 第26-28页 |
| 1．2．4 暗衰值与分子内电荷转移程度的定量关系 | 第28-29页 |
| 1．2．5 光敏值与分子内电荷转移程度的定量关系 | 第29页 |
| 1．2．6 最大吸收光谱波长与分子内电荷转移程度和Δ的定量关系 | 第29-31页 |
| References | 第31-33页 |
| 第二章 电子光谱 | 第33-55页 |
| 第一节 双[4-（二甲胺基）苯基]和双[4-（二甲胺基）-2-羟基苯基]方酸染料的激发态和氧化－还原态的理论研究 | 第33-39页 |
| 2．1．1 引言 | 第33页 |
| 2．1．2 计算模型和计算方法 | 第33-34页 |
| 2．1．3 构型变化 | 第34-35页 |
| 2．1．4 电子结构 | 第35页 |
| 2．1．5 分子轨道 | 第35-37页 |
| 2．1．6 激发态 | 第37-39页 |
| References | 第39-41页 |
| 第二节 双[2，4，6-三羟基苯基]方酸染料基态、激发态、氧化-还原态的理论研究 | 第41-53页 |
| 2．2．1 引言 | 第41页 |
| 2．2．2 计算模型和计算方法 | 第41-42页 |
| 2．2．3 最稳定构象的确定 | 第42页 |
| 2．2．4 最稳定构象的几何构型分析 | 第42-46页 |
| 2．2．5 最大吸收波长计算值与实验值之间的线性关系 | 第46-51页 |
| 2．2．6 最大吸收波长实验值与分子轨道能量之间的线性关系 | 第51-52页 |
| 2．2．7 结语 | 第52-53页 |
| Refrences | 第53-55页 |
| 第三章 热力学函数 | 第55-77页 |
| 第一节 双[4-（二烷胺基）-2-羟基苯基]方酸染料互变异构体的从头算研究 | 第55-60页 |
| 3．1．1 引言 | 第55-56页 |
| 3．1．2 计算模型和计算方法 | 第56页 |
| 3．1．3 几何构型分析 | 第56-57页 |
| 3．1．4 电荷布居分析 | 第57-58页 |
| 3．1．5 热力学分析 | 第58-59页 |
| 3．1．6 优化体系的能量差（ΔE）与自由能变化（ΔG~0）之间的线性关系 | 第59-60页 |
| References | 第60-62页 |
| 第二节 双［吲哚啉］方酸染料互变异构体的从头算研究 | 第62-69页 |
| 3．2．1 引言 | 第62页 |
| 3．2．2 计算模型和计算方法 | 第62页 |
| 3．2．3 互变异构体相对稳定性分析 | 第62-65页 |
| 3．2．4 电荷布居分析 | 第65-66页 |
| 3．2．5 红外光谱分析 | 第66页 |
| 3．2．6 前线分子轨道分析 | 第66-69页 |
| Refereces | 第69-70页 |
| 第三节 双[2，4-二羟基苯基]和双[2，4，6-三羟基苯基]方酸染料二聚体的从头算研究 | 第70-75页 |
| 3．3．1 引言 | 第70页 |
| 3．3．2 计算模型和计算方法 | 第70页 |
| 3．3．3 双[2，4-二羟基笨基]方酸染料互变异构体 | 第70-72页 |
| 3．3．4 单体和二聚体的构型参数分析 | 第72页 |
| 3．3．5 分子内电荷转移 | 第72-73页 |
| 3．3．6 气相二聚反应总能量变化与热力学函数变化之间的关系 | 第73-74页 |
| 3．3．7 电子光谱 | 第74-75页 |
| Refrences | 第75-77页 |
| 附录 论文及发表情况 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
