| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| ·原子沉积在衬底表面的研究意义 | 第9-11页 |
| ·研究背景 | 第9页 |
| ·薄膜生长过程 | 第9-11页 |
| ·影响薄膜形成的几个主要因素 | 第11页 |
| ·衬底表面刻出凹槽的作用 | 第11页 |
| ·团簇的性质及其研究意义 | 第11-13页 |
| ·团簇研究的背景 | 第11-12页 |
| ·贵金属团簇研究的意义和现状 | 第12-13页 |
| ·衬底表面上金属团簇结构研究的意义和发展现状 | 第13-14页 |
| ·本文研究的内容 | 第14-15页 |
| 第二章 分子动力学方法 | 第15-25页 |
| ·分子动力学研究的历史背景 | 第15-16页 |
| ·分子动力学(Molecular Dynamics,MD)的基本原理 | 第16-20页 |
| ·基本原理 | 第16-17页 |
| ·Gear预报—校正算法 | 第17页 |
| ·速度标定 | 第17-19页 |
| ·边界条件 | 第19页 |
| ·初始条件 | 第19-20页 |
| ·时间步长的选择 | 第20页 |
| ·原子间相互作用势 | 第20-24页 |
| ·两体势 | 第20-21页 |
| ·多体势 | 第21-22页 |
| ·嵌入原子方法(Embedded Atom Method,EAM) | 第22-24页 |
| ·模拟中用到的几个函数 | 第24-25页 |
| 第三章 Cu(001)表面上团簇Cu_(13)和Au_(116)结构的MD模拟 | 第25-41页 |
| ·Cu(001)表面上Cu_(13)团簇结构的MD模拟 | 第25-36页 |
| ·初始结构与模拟过程 | 第25-27页 |
| ·模拟结果与讨论 | 第27-35页 |
| ·小结 | 第35-36页 |
| ·浅槽形Cu(001)表面上Au_(116)团簇结构的MD模拟 | 第36-41页 |
| ·初始结构及模拟过程 | 第36-37页 |
| ·模拟结果与分析 | 第37-40页 |
| ·小结 | 第40-41页 |
| 第四章 在槽型Cu衬底(001)面上进行同质原子沉积的MD模拟 | 第41-50页 |
| ·初始结构和模拟过程 | 第41-42页 |
| ·模拟结果与讨论 | 第42-49页 |
| ·模型Ⅰ的结果与讨论 | 第42-46页 |
| ·模型Ⅱ的结果与讨论 | 第46-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 第五章 结论 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 硕士期间发表论文 | 第57页 |
