摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
1 绪论 | 第9-17页 |
·吸波材料的研究现状 | 第9-14页 |
·吸波材料的发展趋势 | 第14-15页 |
·课题背景及意义 | 第15页 |
·研究内容 | 第15-17页 |
2 吸波材料理论基础与设计思路 | 第17-25页 |
·材料与电磁波的相互作用规律 | 第17-20页 |
·吸波材料的吸波原理 | 第20-22页 |
·吸波体的设计目标与设计思路 | 第22-25页 |
·设计目标 | 第22-23页 |
·吸波体的设计思想 | 第23-25页 |
3 玻璃微珠表面化学镀预处理工艺研究 | 第25-31页 |
·引言 | 第25页 |
·预处理工艺 | 第25页 |
·实验原料与设备 | 第25-26页 |
·预处理实验 | 第26-30页 |
·玻璃微珠清洗工艺 | 第26-27页 |
·活化实验 | 第27-29页 |
·结果分析 | 第29-30页 |
·本章小结 | 第30-31页 |
4 玻璃微珠表面化学镀Ni-P合金及其工艺条件研究 | 第31-52页 |
·引言 | 第31页 |
·化学镀Ni-P合金镀层的理论基础 | 第31-34页 |
·化学镀镍的原子氢理论 | 第31-33页 |
·化学镀镍的氢化物理论 | 第33页 |
·化学镀镍的热力学 | 第33-34页 |
·化学镀液组成及其作用 | 第34-38页 |
·主盐的选择 | 第35页 |
·还原剂的选择 | 第35-36页 |
·络合剂的选择 | 第36-37页 |
·缓冲剂的选择 | 第37-38页 |
·玻璃微珠表面化学镀Ni-P实验 | 第38-41页 |
·实验原料与设备 | 第38-39页 |
·实验流程 | 第39页 |
·化学镀镍溶液中镍含量的测定 | 第39-40页 |
·化学镀镍溶液稳定性测定 | 第40-41页 |
·测定沉积速率 | 第41页 |
·结果与分析 | 第41-51页 |
·Ni~(2+)浓度对镀层增加量的影响 | 第41-42页 |
·Ni~(2+)浓度对镀层沉积速度的影响 | 第42-43页 |
·还原剂的浓度对镀层增加量和沉积速度的影响 | 第43页 |
·主盐和还原剂浓度对化学镀的影响 | 第43-44页 |
·主盐与还原剂的浓度比对化学镀的影响 | 第44-46页 |
·络合剂对化学镀的影响 | 第46-47页 |
·pH值对化学镀的影响 | 第47-48页 |
·温度对化学镀的影响 | 第48-49页 |
·装载量对化学镀的影响 | 第49-50页 |
·扫描电镜(SEM)分析 | 第50-51页 |
·磁性能分析 | 第51页 |
·本章小结 | 第51-52页 |
5 玻璃微珠表面钡铁氧体涂层的制备与磁性能研究 | 第52-57页 |
·引言 | 第52页 |
·制备原理 | 第52-53页 |
·包裹钡铁氧体实验 | 第53-55页 |
·实验原料与设备 | 第53-54页 |
·实验流程 | 第54-55页 |
·结果与分析 | 第55-56页 |
·扫描电子显微分析(SEM) | 第55页 |
·磁性能分析 | 第55-56页 |
·本章小结 | 第56-57页 |
6 结论与展望 | 第57-58页 |
·结论 | 第57页 |
·展望 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-62页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第62-63页 |
致谢 | 第63-64页 |