| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-11页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·液相等离子体电沉积表面处理技术发展现状 | 第8-9页 |
| ·论文研究目的和内容 | 第9-11页 |
| 第二章 离子沉积技术的原理及渗层结构和性能 | 第11-25页 |
| ·离子渗氮技术 | 第11-17页 |
| ·离子渗碳技术 | 第17-19页 |
| ·离子碳氮共渗技术 | 第19-21页 |
| ·液相等离子体电解渗氮、渗碳、碳氮共渗技术 | 第21-25页 |
| 第三章 实验装置及处理过程 | 第25-29页 |
| ·实验装置 | 第25-26页 |
| ·电解液的配制 | 第26-27页 |
| ·实验材料和处理工艺 | 第27页 |
| ·实验过程及现象 | 第27-29页 |
| 第四章 液相等离子体电解碳氮共渗的实验研究 | 第29-39页 |
| ·碳氮共渗层形成的临界条件 | 第29-30页 |
| ·加热温度测量与控制 | 第30-32页 |
| ·电压、时间对渗层硬度和厚度的影响 | 第32-33页 |
| ·电解液成分变化对处理效果的影响 | 第33-37页 |
| ·快速碳氮共渗后的淬火 | 第37-39页 |
| 第五章 液相等离子体电沉积技术的应用及展望 | 第39-40页 |
| 结论 | 第40-42页 |
| 致谢 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-44页 |