摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-12页 |
第一章 绪论 | 第12-28页 |
·纳米金催化剂 | 第12-17页 |
·负载型纳米金催化剂的性质 | 第13页 |
·负载型纳米金催化剂的制备 | 第13-15页 |
·负载型金催化剂的应用前景 | 第15-17页 |
·加氢脱硫 | 第17-23页 |
·燃料油脱硫简介 | 第17-18页 |
·汽柴油中含硫化合物的种类及其反应特点 | 第18-19页 |
·加氢脱硫催化剂 | 第19-23页 |
·传统的过渡金属硫化物催化体系 | 第19-20页 |
·过渡金属碳化物、氮化物催化剂 | 第20页 |
·过渡金属磷化物催化剂 | 第20-21页 |
·贵金属催化剂 | 第21页 |
·贵金属促进的过渡金属硫化物催化剂 | 第21-22页 |
·金基双金属催化剂 | 第22-23页 |
·本课题的意义 | 第23-24页 |
参考文献 | 第24-28页 |
第二章 Au-Ni/SiO_2 双金属催化剂用于噻吩加氢脱硫反应的研究 | 第28-43页 |
·实验部分 | 第28-30页 |
·催化剂的制备 | 第28-29页 |
·Ni/SiO_2 催化剂的制备 | 第28页 |
·Au/SiO_2 及 Au-Ni/SiO_2 催化剂的制备 | 第28-29页 |
·催化剂的预硫化处理 | 第29页 |
·催化剂的活性评价 | 第29页 |
·催化剂的表征 | 第29-30页 |
·比表面积及孔结构测定 | 第29页 |
·X射线衍射(XRD) | 第29页 |
·程序升温还原(TPR) | 第29-30页 |
·X光电子能谱(XPS) | 第30页 |
·实验结果 | 第30-41页 |
·硫化态 Ni/SiO_2 和Au-Ni/SiO_2 催化剂的比表面积和孔结构测催化剂的物化性质 | 第30-31页 |
·XRD 图谱分析 | 第31-33页 |
·硫化态 Ni/SiO_2 的 XRD 图 | 第31页 |
·硫化态Au-Ni/SiO_2的XRD 图 | 第31-33页 |
·不同Ni 负载量的硫化态Au-Ni/SiO_2的XRD 图 | 第31-32页 |
·不同Au 负载量的硫化态Au-Ni/SiO_2的XRD 图 | 第32-33页 |
·TPR 图谱分析 | 第33-35页 |
·焙烧后的Ni/SiO_2催化剂的TPR | 第33页 |
·焙烧后的Au-Ni/SiO_2催化剂的TPR | 第33-34页 |
·不同Ni 负载量的Au-Ni/SiO_2催化剂的TPR | 第33-34页 |
·不同Au 负载量的Au-Ni/SiO_2催化剂的TPR | 第34页 |
·硫化态催化剂的TPR | 第34-35页 |
·XPS分析 | 第35-36页 |
·催化剂的噻吩HDS活性 | 第36-41页 |
·单金属催化剂的HDS活性 | 第36-38页 |
·硫化态Ni/SiO_2催化剂的HDS 活性 | 第36-37页 |
·Au/SiO_2催化剂的HDS 活性 | 第37-38页 |
·双金属催化剂的HDS 活性 | 第38-40页 |
·不同活化方式对Au-Ni 双金属催化剂HDS 活性的影响 | 第38页 |
·Ni 负载量对硫化态Au-Ni/SiO_2催化剂HDS 活性的影响 | 第38-39页 |
·Au 负载量对硫化态Au-Ni/SiO_2催化剂HDS 活性的影响 | 第39-40页 |
·硫化态 Au-Ni 双金属催化剂协同作用的解释 | 第40-41页 |
·小结 | 第41-42页 |
参考文献 | 第42-43页 |
第三章 硫化条件及反应条件对 Au-Ni 双金属催化剂噻吩加氢脱硫反应的影响 | 第43-50页 |
·实验部分 | 第43页 |
·催化剂的制备 | 第43页 |
·催化剂的预硫化处理 | 第43页 |
·催化剂的活性评价 | 第43页 |
·实验结果 | 第43-48页 |
·硫化条件对催化活性的影响 | 第43-46页 |
·硫化温度对活性的影响 | 第44页 |
·硫化时间对活性的影响 | 第44-45页 |
·不同硫化条件的催化剂的比表面积及孔结构测定 | 第45页 |
·不同硫化条件的催化剂的 TPR | 第45-46页 |
·反应条件对催化活性的影响 | 第46-48页 |
·反应温度对活性的影响 | 第46-47页 |
·反应空速对活性的影响 | 第47页 |
·氢气流速对活性的影响 | 第47-48页 |
·小结 | 第48-49页 |
参考文献 | 第49-50页 |
第四章 Au-M/SiO_2 双金属催化剂噻吩加氢脱硫反应的研究 | 第50-55页 |
·实验部分 | 第50-51页 |
·催化剂的制备 | 第50页 |
·MOx/SiO_2 催化剂的制备 | 第50页 |
·Au-M/SiO_2 催化剂的制备 | 第50页 |
·催化剂的预硫化处理 | 第50-51页 |
·催化剂的活性评价 | 第51页 |
·催化剂的表征 | 第51页 |
·比表面积及孔结构测定 | 第51页 |
·X射线衍射(XRD) | 第51页 |
·X光电子能谱(XPS) | 第51页 |
·实验结果 | 第51-54页 |
·催化剂的噻吩HDS活性 | 第51-52页 |
·催化剂的表征 | 第52-54页 |
·比表面积和孔结构测定 | 第52页 |
·XRD 图谱分析 | 第52-53页 |
·XPS 分析 | 第53-54页 |
·小结 | 第54-55页 |
第五章 结论 | 第55-57页 |
致谢 | 第57-58页 |
作者简历 | 第58-59页 |
论文发表情况 | 第59页 |