| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-23页 |
| ·引言 | 第15-16页 |
| ·VO_2薄膜的晶体结构与特性 | 第16-18页 |
| ·VO_2薄膜的晶体结构 | 第16-17页 |
| ·VO_2薄膜的特性 | 第17-18页 |
| ·VO_2薄膜的应用 | 第18-19页 |
| ·非致冷红外探测器 | 第18页 |
| ·太阳能控制材料应用 | 第18-19页 |
| ·热致开关 | 第19页 |
| ·光电开关 | 第19页 |
| ·光存储 | 第19页 |
| ·其他方面的应用 | 第19页 |
| ·VO_x薄膜的制备方法 | 第19-22页 |
| ·磁控溅射(MS) | 第19-20页 |
| ·真空蒸发(VE) | 第20页 |
| ·离子束溅射沉积 | 第20-21页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第21页 |
| ·脉冲激光沉积技术 | 第21-22页 |
| ·本章小结 | 第22-23页 |
| 第二章 VO_x薄膜的制备及测试方法 | 第23-33页 |
| ·引言 | 第23页 |
| ·薄膜的制备 | 第23-30页 |
| ·溅射的基本原理 | 第23-28页 |
| ·薄膜的沉积过程 | 第28-29页 |
| ·衬底的清洗方法 | 第29页 |
| ·磁控溅射制备VO_x薄膜的制备 | 第29-30页 |
| ·薄膜的测试 | 第30-32页 |
| ·结构分析 | 第30页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第30-31页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第31-32页 |
| ·薄膜内耗的测试 | 第32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 VO_x薄膜的制备工艺及性能分析 | 第33-51页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·氧氩比对VO_x薄膜性能的影响 | 第33-39页 |
| ·高氧比例的VO_x薄膜XRD分析 | 第34-35页 |
| ·高氧比例的VO_x薄膜的SEM分析 | 第35页 |
| ·高氧比例的VO_x薄膜电阻-温度曲线的影响 | 第35-37页 |
| ·低氧比例的VO_x薄膜电阻-温度曲线 | 第37-38页 |
| ·高氧比例的VO_x薄膜的XPS分析 | 第38-39页 |
| ·工作气压对VO_x薄膜电阻-温度曲线的影响 | 第39-41页 |
| ·不同的退火工艺对VO_x薄膜电阻-温度曲线的影响 | 第41-44页 |
| ·退火温度对VO_x薄膜电阻-温度曲线的影响 | 第41-42页 |
| ·退火时间对VO_x薄膜电阻-温度曲线的影响 | 第42-43页 |
| ·退火气氛对VO_x薄膜电阻-温度曲线的影响 | 第43-44页 |
| ·不同衬底对VO_x薄膜性能的影响 | 第44-49页 |
| ·在不同衬底上射频制备VO_x薄膜的工艺参数 | 第44页 |
| ·不同衬底样品的XRD分析 | 第44-45页 |
| ·不同衬底样品的SEM分析 | 第45-47页 |
| ·不同衬底样品的XPS分析 | 第47-48页 |
| ·不同衬底对VO_x薄膜电阻-温度曲线的影响 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 VO_x多层膜的制备工艺及性能分析 | 第51-57页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·VO_x/TiO_x薄膜的制备 | 第51页 |
| ·沉积TiO_x时衬底温度对VO_x/TiO_x薄膜电阻-温度曲线的影响 | 第51-52页 |
| ·不同氧氩比对VO_x/TiO_x薄膜电阻-温度曲线的影响 | 第52-53页 |
| ·对比不同层数氧化钒薄膜的电阻-温度曲线 | 第53-54页 |
| ·对比VO_x薄膜和VO_x/TiO_x薄膜的电阻-温度曲线 | 第53页 |
| ·对比VO_x/TiO_x薄膜和VO_x/TiO_x/Ti薄膜的电阻-温度曲线 | 第53-54页 |
| ·不同溅射功率对VO_x/TiO_x/Ti薄膜电阻-温度曲线的影响 | 第54-55页 |
| ·不同层数氧化钒薄膜的XRD分析 | 第55-56页 |
| ·VO_x单层膜的XRD分析 | 第55页 |
| ·VO_x/TiO_x薄膜的XRD分析 | 第55页 |
| ·VO_x/TiO_x/Ti薄膜的XRD分析 | 第55-56页 |
| ·结论 | 第56-57页 |
| 第五章 VO_x薄膜的内耗研究 | 第57-62页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·制各样品的主要工艺参数 | 第57页 |
| ·薄膜样品的XRD | 第57-58页 |
| ·薄膜样品的电阻-温度曲线 | 第58-59页 |
| ·膜厚对薄膜试样杨氏模量的影响 | 第59-60页 |
| ·退火对薄膜试样杨氏模量的影响 | 第60页 |
| ·频率对薄膜试样杨氏模量的影响 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第六章 总结 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 硕士期间论文发表情况 | 第68页 |
