| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-30页 |
| ·四硫富瓦烯及其衍生物的性质 | 第8-9页 |
| ·含吡啶基团四硫富瓦烯衍生物的种类及研究现状 | 第9-15页 |
| ·TTF 与吡啶基团通过π-间隔体共轭相连的化合物 | 第9-11页 |
| ·TTF 与吡啶基团通过非共轭间隔体相连的化合物 | 第11-14页 |
| ·TTF 与吡啶基团直接相连的化合物 | 第14-15页 |
| ·二硫纶配合物的种类和性质 | 第15-22页 |
| ·含d~8 结构金属离子的二硫纶配合物的研究现状 | 第17-22页 |
| ·质子对含氮化合物的响应 | 第22-26页 |
| ·本论文研究的主要内容及意义 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-30页 |
| 第二章 含吡啶基团四硫富瓦烯衍生物的加质子反应及氧化还原性质 | 第30-48页 |
| ·前言 | 第30页 |
| ·实验部分 | 第30-33页 |
| ·试剂及仪器 | 第30-31页 |
| ·合成部分 | 第31-33页 |
| ·晶体结构测定 | 第33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-44页 |
| ·晶体结构 | 第33-41页 |
| ·在丙二酸中DMT-TTF-Py 的电化学响应 | 第41-42页 |
| ·在丙二酸中DMT-TTF-Py 的的紫外-可见光谱 | 第42-44页 |
| ·结论 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-48页 |
| 第三章 C_8H_5NOS_2及其配合物的合成 | 第48-62页 |
| ·前言 | 第48页 |
| ·实验部分 | 第48-50页 |
| ·试剂仪器 | 第48-49页 |
| ·合成部分 | 第49-50页 |
| ·晶体结构测定 | 第50页 |
| ·配合物3、4、5 的结果与讨论 | 第50-59页 |
| ·配合物3 的晶体结构[Ag(PYDO)_2]CLO_4 | 第50-54页 |
| ·配合物4 的晶体结构[Ag(PYDO)_2]NO_3 | 第54-57页 |
| ·配合物5 的晶体结构[Cu(PYDO)_2](NO_3)_2 | 第57-59页 |
| ·结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-62页 |
| 第四章 镍二硫纶吡啶衍生物的合成及性质研究 | 第62-79页 |
| ·前言 | 第62页 |
| ·实验部分 | 第62-64页 |
| ·试剂仪器 | 第62-63页 |
| ·合成部分 | 第63-64页 |
| ·化合物6、7、8 的晶体结构测试 | 第64页 |
| ·结果与讨论 | 第64-77页 |
| ·配合物6 的合成及晶体结构 | 第64-68页 |
| ·配合物6 的氧化还原性质 | 第68-77页 |
| ·结论 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-79页 |
| 第五章 全文总结 | 第79-80页 |
| ·本论文的总结 | 第79页 |
| ·对未来工作的设想 | 第79-80页 |
| 攻读学位期间撰写的学术论文 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
