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金刚石膜的应力研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-6页
目录第6-7页
第一章 绪论第7-14页
   ·金刚石的结构第7页
   ·金刚石的性质与应用第7-11页
   ·CVD金刚石的生长机理第11-12页
   ·金刚石膜制备方法简介第12-13页
   ·论文的选题及主要研究内容第13-14页
第二章 直流热阴极PCVD法制备金刚石膜及其特性研究第14-28页
   ·制备金刚石膜的实验装置简介第14-16页
   ·金刚石膜的生长特性第16-28页
     ·金刚石膜的生长速率第16-21页
     ·金刚石膜的表面形貌第21-24页
     ·金刚石膜的品质研究第24-28页
第三章 CVD金刚石膜的应力研究第28-47页
   ·金刚石膜应力的产生及影响第28-29页
   ·金刚石膜应力的研究方法第29-32页
     ·RAMAN波谱法第29-30页
     ·X射线法第30-32页
     ·其他方法第32页
   ·利用XRD谱研究金刚石膜的应力第32-36页
     ·沉积工艺对金刚石自由膜宏观应变的影响第33-34页
     ·沉积工艺对金刚石自由膜微观应变的影响第34-36页
   ·利用Raman谱研究金刚石膜的应力第36-44页
     ·金刚石膜的Raman谱测试第37-38页
     ·基片温度对CVD金刚石膜应力的影响第38-40页
     ·甲烷流量对CVD金刚石膜应力的影响第40-43页
     ·CVD金刚石膜应力的分析与工艺条件的优化第43-44页
   ·金刚石膜的爆裂与微裂纹第44-47页
第四章 总结与展望第47-49页
致谢第49-50页
参考文献第50-52页

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