摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
目录 | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第7-14页 |
·金刚石的结构 | 第7页 |
·金刚石的性质与应用 | 第7-11页 |
·CVD金刚石的生长机理 | 第11-12页 |
·金刚石膜制备方法简介 | 第12-13页 |
·论文的选题及主要研究内容 | 第13-14页 |
第二章 直流热阴极PCVD法制备金刚石膜及其特性研究 | 第14-28页 |
·制备金刚石膜的实验装置简介 | 第14-16页 |
·金刚石膜的生长特性 | 第16-28页 |
·金刚石膜的生长速率 | 第16-21页 |
·金刚石膜的表面形貌 | 第21-24页 |
·金刚石膜的品质研究 | 第24-28页 |
第三章 CVD金刚石膜的应力研究 | 第28-47页 |
·金刚石膜应力的产生及影响 | 第28-29页 |
·金刚石膜应力的研究方法 | 第29-32页 |
·RAMAN波谱法 | 第29-30页 |
·X射线法 | 第30-32页 |
·其他方法 | 第32页 |
·利用XRD谱研究金刚石膜的应力 | 第32-36页 |
·沉积工艺对金刚石自由膜宏观应变的影响 | 第33-34页 |
·沉积工艺对金刚石自由膜微观应变的影响 | 第34-36页 |
·利用Raman谱研究金刚石膜的应力 | 第36-44页 |
·金刚石膜的Raman谱测试 | 第37-38页 |
·基片温度对CVD金刚石膜应力的影响 | 第38-40页 |
·甲烷流量对CVD金刚石膜应力的影响 | 第40-43页 |
·CVD金刚石膜应力的分析与工艺条件的优化 | 第43-44页 |
·金刚石膜的爆裂与微裂纹 | 第44-47页 |
第四章 总结与展望 | 第47-49页 |
致谢 | 第49-50页 |
参考文献 | 第50-52页 |