| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 1 绪论 | 第11-27页 |
| ·仿生法和自组装单层膜概述 | 第11-18页 |
| ·HfO_2 高K 材料的应用和发展 | 第18-25页 |
| ·本论文研究的主要内容 | 第25-27页 |
| 2 实验部分 | 第27-33页 |
| ·实验基片 | 第27页 |
| ·实验药品和试剂 | 第27页 |
| ·实验仪器 | 第27-29页 |
| ·实验流程 | 第29-31页 |
| ·测试所用的设备仪器 | 第31-33页 |
| 3 OTS 自组装膜的制备和功能化 | 第33-45页 |
| ·基板表面预处理和洁净化 | 第33-35页 |
| ·OTS 自组装膜层的制备及形貌分析 | 第35-40页 |
| ·SAMs 层的功能化处理 | 第40-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 4 OTS 自组装功能膜上制备HfO_2 薄膜 | 第45-61页 |
| ·前驱体溶液的选择 | 第45-46页 |
| ·OTS-SAMS 上沉积HfO_2 薄膜的工艺研究 | 第46-55页 |
| ·OTS-SAMS 对薄膜沉积的影响 | 第55-56页 |
| ·OTS-SAMS 表面沉积膜的附着力 | 第56-58页 |
| ·OTS-SAMS 诱导沉积HfO_2 薄膜的机理分析 | 第58-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 5 HfO_2 薄膜的图案化制备 | 第61-71页 |
| ·前言 | 第61-62页 |
| ·制备HfO_2 图案化薄膜的工艺过程 | 第62-63页 |
| ·图案化OTS 自组装膜层的表征 | 第63-64页 |
| ·图案化HfO_2 薄膜的SEM 表征 | 第64-65页 |
| ·图案化HfO_2 薄膜的EDS 表征 | 第65-67页 |
| ·超声波处理对薄膜图案化的影响 | 第67-68页 |
| ·紫外照射时间对图案化薄膜的影响 | 第68-69页 |
| ·硅基板上制备HfO_2 图案化薄膜 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 6 结论 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第80页 |