| 目录 | 第1-10页 |
| TABLE OF CONTENTS | 第10-16页 |
| 摘要 | 第16-19页 |
| ABSTRACT | 第19-22页 |
| 第1章 绪论 | 第22-58页 |
| ·引言 | 第22-24页 |
| ·金刚石薄膜的制备 | 第24-26页 |
| ·金刚石的性能 | 第26-31页 |
| ·普通金刚石的性能 | 第26页 |
| ·掺杂金刚石电极的性能 | 第26-30页 |
| ·金刚石电极的掺杂剂以及其相应的电学性能 | 第26-27页 |
| ·水电解液中掺杂金刚石的电化学性能 | 第27-29页 |
| ·掺杂金刚石的光电化学性能 | 第29-30页 |
| ·金刚石电极的稳定性 | 第30-31页 |
| ·金刚石电极的生物相容性 | 第31页 |
| ·金刚石电极的共价化学修饰 | 第31-46页 |
| ·氧终端金刚石表面的修饰 | 第32-36页 |
| ·氢终端金刚石的氧化 | 第32-34页 |
| ·氧终端金刚石的化学反应活性 | 第34-36页 |
| ·硅烷化反应 | 第34-35页 |
| ·酯化反应 | 第35-36页 |
| ·氢终端金刚石表面的修饰 | 第36-46页 |
| ·C-C键的形成 | 第37-40页 |
| ·重氮化学反应 | 第37-38页 |
| ·烯烃在光化学条件下与氢终端金刚石的直接反应 | 第38-40页 |
| ·C-O键的形成 | 第40-41页 |
| ·C-X键的形成 | 第41-45页 |
| ·卤化表面的化学反应活性 | 第43-45页 |
| ·C-N键的形成 | 第45-46页 |
| ·胺化金刚石表面的化学反应活性 | 第45-46页 |
| ·论文内容 | 第46-48页 |
| ·参考文献 | 第48-58页 |
| 第2章 实验材料与方法 | 第58-74页 |
| ·实验材料与化学药品 | 第58-60页 |
| ·化学药品 | 第58-59页 |
| ·去离子水 | 第59页 |
| ·试验器具 | 第59页 |
| ·安全防护 | 第59页 |
| ·试验加热 | 第59-60页 |
| ·炔终端环玢6的合成 | 第60页 |
| ·固体3的合成 | 第60页 |
| ·炔终端环玢6的合成 | 第60页 |
| ·表面材料的制备 | 第60-63页 |
| ·氢终端掺硼金刚石样品 | 第60-61页 |
| ·氢终端自立掺硼金刚石样品 | 第61-63页 |
| ·氢终端多孔硅样品 | 第63页 |
| ·表面材料的功能化修饰 | 第63-69页 |
| ·金刚石氧化表面的功能化修饰 | 第64-67页 |
| ·氢终端掺硼金刚石的氧化 | 第64-65页 |
| ·电化学氧化 | 第64页 |
| ·光化学氧化 | 第64-65页 |
| ·氧气等离子体氧化 | 第65页 |
| ·三种氧化掺硼金刚石的功能化修饰 | 第65页 |
| ·氧终端掺硼金刚石表面的硅烷化反应 | 第65页 |
| ·氧终端掺硼金刚石表面的脂化反应 | 第65页 |
| ·点击化学 | 第65-66页 |
| ·掺硼金刚石的叠氮终端制备 | 第65-66页 |
| ·将二茂铁"点击"到叠氮终端掺硼金刚石表面 | 第66页 |
| ·将噻吩"点击"到叠氮终端掺硼金刚石表面 | 第66页 |
| ·将环玢"点击"到叠氮终端掺硼金刚石表面 | 第66页 |
| ·氧化掺硼金刚石表面的羟基官能团与乙酸基离子液体间的酯化反应 | 第66-67页 |
| ·阴离子交换反应 | 第67页 |
| ·氢终端自立掺硼金刚石表面的卤化 | 第67-68页 |
| ·格林试剂与卤化掺硼金刚石表面的化学反应 | 第68页 |
| ·溴化掺硼金刚石与叠氮化钠的亲核取代反应 | 第68页 |
| ·乙炔基二茂铁与叠氮终端掺硼金刚石表面上的叠氮-炔基环化加成反应 | 第68页 |
| ·多孔硅表面的噻吩功能化修饰 | 第68-69页 |
| ·多孔硅表面的胺终端制备 | 第68-69页 |
| ·多孔硅表面的叠氮终端制备 | 第69页 |
| ·将噻吩"点击"到叠氮终端多孔硅表面 | 第69页 |
| ·表面表征 | 第69-72页 |
| ·表面接触角的测量 | 第69-70页 |
| ·X射线光电子光谱分析 | 第70页 |
| ·电化学检测 | 第70-72页 |
| ·第3章电化学检测 | 第70-71页 |
| ·第4章电化学检测 | 第71页 |
| ·第5章电化学检测 | 第71页 |
| ·第6章电化学检测 | 第71-72页 |
| ·扫描电子显微镜分析 | 第72页 |
| ·原子力显微镜分析 | 第72页 |
| ·参考文献 | 第72-74页 |
| 第3章 氢终端掺硼金刚石电极的氧化 | 第74-102页 |
| ·引言 | 第74-75页 |
| ·本章目标 | 第75-76页 |
| ·实验结果与讨论 | 第76-97页 |
| ·电化学氧化 | 第76-78页 |
| ·光化学氧化金刚石的研究 | 第78-89页 |
| ·表面接触角的测定 | 第79-81页 |
| ·电化学表征 | 第81-86页 |
| ·X射线光电子光谱表征 | 第86-89页 |
| ·氧气等离子体氧化金刚石的研究 | 第89-91页 |
| ·三种表面的硅烷化研究 | 第91-94页 |
| ·不同氧化表面的酯化反应研究 | 第94-97页 |
| ·结论 | 第97-98页 |
| ·展望 | 第98-99页 |
| ·参考文献 | 第99-102页 |
| 第4章 "点击"具有乙炔基的有机分子到叠氮终端掺硼金刚石表面 | 第102-144页 |
| ·引言 | 第102-109页 |
| ·二茂铁的研究背景及其本章目标 | 第103-105页 |
| ·噻吩及其聚合反应的研究背景与本章目标 | 第105-107页 |
| ·超分子的研究背景及其本章目标 | 第107-109页 |
| ·反应机理分析 | 第109-113页 |
| ·以二环己基碳化二亚胺与4-二甲氨基吡啶为催化剂的酯化反应 | 第109-111页 |
| ·点击反应 | 第111页 |
| ·掺硼金刚石表面噻吩单体的聚合反应 | 第111-113页 |
| ·结果与讨论 | 第113-130页 |
| ·叠氮终端金刚石表面的表征 | 第113-115页 |
| ·表面接触角 | 第113-114页 |
| ·X射线光电子光谱分析 | 第114-115页 |
| ·电化学分析 | 第115页 |
| ·二茂铁终端掺硼金刚石表面的表征及分析 | 第115-120页 |
| ·表面接触角的测定 | 第116页 |
| ·X射线光电子光谱分析 | 第116-118页 |
| ·电化学分析 | 第118-120页 |
| ·噻吩单体聚合前后掺硼金刚石的表面表征 | 第120-125页 |
| ·表面接触角 | 第120页 |
| ·X射线光电子光谱分析 | 第120-123页 |
| ·电化学聚合与表征 | 第123-125页 |
| ·环玢终端掺硼金刚石表面的表征与分析 | 第125-130页 |
| ·表面接触角的测定 | 第125-126页 |
| ·X射线光电子光谱分析 | 第126-128页 |
| ·电化学分析 | 第128-130页 |
| ·多孔硅表面的噻吩功能化修饰 | 第130-136页 |
| ·修饰乙炔基噻吩到多孔硅表面 | 第130页 |
| ·多孔硅修饰表面表征 | 第130-132页 |
| ·傅里叶变换红外光谱分析 | 第132-134页 |
| ·噻吩终端多孔硅表面聚合噻吩的形成 | 第134-136页 |
| ·结论 | 第136-138页 |
| ·展望 | 第138-140页 |
| ·参考文献 | 第140-144页 |
| 第5章 离子液体对氧终端掺硼金刚石电极的化学修饰 | 第144-157页 |
| ·引言 | 第144-145页 |
| ·本章目标 | 第145页 |
| ·结果与讨论 | 第145-151页 |
| ·表面接触角 | 第145-147页 |
| ·X射线光电子光谱分析 | 第147-151页 |
| ·电化学行为检测分析 | 第151页 |
| ·离子交换反应 | 第151-155页 |
| ·结论 | 第155页 |
| ·展望 | 第155页 |
| ·参考文献 | 第155-157页 |
| 第6章 卤化掺硼金刚石电极的制备及其化学反应活性 | 第157-175页 |
| ·引言 | 第157-158页 |
| ·本章目标 | 第158-159页 |
| ·反应机理分析 | 第159-163页 |
| ·自由基反应 | 第159-161页 |
| ·亲核取代反应 | 第161-162页 |
| ·点击化学反应 | 第162-163页 |
| ·结果与讨论 | 第163-172页 |
| ·表面接触角 | 第163-165页 |
| ·电化学行为研究 | 第165-167页 |
| ·X射线光电子光谱分析 | 第167-172页 |
| ·结论 | 第172页 |
| ·展望 | 第172-173页 |
| ·参考文献 | 第173-175页 |
| 第7章 结论与展望 | 第175-179页 |
| ·氧终端金刚石表面的功能化修饰 | 第175-177页 |
| ·"点击"具有乙炔基的有机分子到叠氮终端掺硼金刚石表面 | 第176-177页 |
| ·离子液体对氧终端掺硼金刚石表面的化学功能化修饰 | 第177页 |
| ·氢终端金刚石的化学功能化修饰 | 第177-178页 |
| ·展望 | 第178-179页 |
| 附录 | 第179-195页 |
| 附录1.超声波清洗 | 第179页 |
| 附录2.平台轨道摇动器 | 第179页 |
| 附录3.紫外/臭氧 | 第179-181页 |
| 附录4.氧气等离子体 | 第181-182页 |
| 附录5.表面接触角的测量 | 第182-183页 |
| 附录6.扫描电子显微镜 | 第183-185页 |
| 附录7.原子力电子显微镜 | 第185-186页 |
| 附录8.红外光谱 | 第186-188页 |
| 附录9.循环伏安法 | 第188-191页 |
| 附录10.X射线光电子光谱 | 第191-193页 |
| 附录 参考文献 | 第193-195页 |
| 致谢 | 第195-197页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 | 第197-199页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第199页 |
