| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-24页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·金刚石的晶体结构 | 第11-12页 |
| ·金刚石的性质及应用 | 第12-15页 |
| ·金刚石的力学性质 | 第12-13页 |
| ·金刚石的热学性质 | 第13页 |
| ·金刚石的光学性质 | 第13-14页 |
| ·金刚石的声学性质 | 第14页 |
| ·金刚石的电学性质 | 第14页 |
| ·金刚石的化学性质 | 第14-15页 |
| ·金刚石膜的应用 | 第15-17页 |
| ·CVD 金刚石在精密加工方面的应用 | 第15-16页 |
| ·在电子器件方面的应用 | 第16页 |
| ·在光学保护膜等方面的应用 | 第16-17页 |
| ·硼掺杂金刚石膜的应用 | 第17页 |
| ·化学气相沉积（CVD）方法简介 | 第17-21页 |
| ·热丝化学气相沉积（HF-CVD）方法和电子辅助热丝化学气相沉积（EA-HFCVD）方法 | 第17-18页 |
| ·微波等离子体化学气相沉积法(MW-PCVD) | 第18-19页 |
| ·直流喷射等离子体化学气相沉积方法（DC-PJCVD） | 第19页 |
| ·直流热阴极等离子体化学气相沉积方法（DC-PCVD） | 第19-21页 |
| ·金刚石膜的发展历史及研究现状 | 第21-22页 |
| ·论文选题及研究的主要内容 | 第22-24页 |
| 第2章 金刚石膜的制备与表征 | 第24-40页 |
| ·直流热阴极等离子体化学气相沉积装置及基本工艺 | 第24-25页 |
| ·直流辉光放电等离子体特性 | 第25-29页 |
| ·较高气压下的直流辉光放电状态 | 第25-27页 |
| ·高气压下的直流辉光放电特性 | 第27-29页 |
| ·实验步骤 | 第29-30页 |
| ·金刚石膜生长速率 | 第30-34页 |
| ·碳源气体流量及种类对金刚石膜生长速率的影响 | 第30-32页 |
| ·电流对金刚石膜生长速率的影响 | 第32-33页 |
| ·气压对金刚石膜生长速率的影响 | 第33页 |
| ·温度对金刚石膜生长速率的影响 | 第33-34页 |
| ·金刚石膜生长特性 | 第34-38页 |
| ·金刚石膜的表面形貌研究 | 第34-35页 |
| ·金刚石膜晶粒取向的研究（XRD） | 第35-37页 |
| ·金刚石膜的品质研究 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-40页 |
| 第3章 氮气对金刚石膜生长特性的影响及自支撑金刚石膜的制备 | 第40-48页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·N_2的掺入对辉光等离子体稳定性的影响 | 第40-41页 |
| ·N_2流量对金刚石膜表面形貌和质量的影响 | 第41-43页 |
| ·N_2流量对金刚石膜晶粒取向的影响 | 第43-44页 |
| ·N_2流量对金刚石膜生长速率的影响 | 第44-45页 |
| ·自支撑掺氮金刚石膜的制备 | 第45-46页 |
| ·自支撑掺氮金刚石膜表面及断面的分析 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第4章 含氮金刚石膜的氮存在状态、应力及电阻率的研究 | 第48-58页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·金刚石膜中氮杂质状态研究 | 第48-51页 |
| ·氮气对金刚石膜内应力的影响 | 第51-55页 |
| ·金刚石膜内应力的起源 | 第51页 |
| ·金刚石膜应力测量方法简介 | 第51-52页 |
| ·氮气对金刚石膜应力的影响 | 第52-55页 |
| ·氮气对金刚石膜电阻率的影响 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第五章 全文总结与展望 | 第58-62页 |
| ·全文总结 | 第58-61页 |
| ·展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-69页 |
| 攻读硕士学位期间主要成果 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
