摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-8页 |
第一章 绪论 | 第8-15页 |
·多金属氧酸盐概述 | 第8-12页 |
·多金属氧酸盐的发展 | 第8-9页 |
·多金属氧酸盐的特性 | 第9-10页 |
·多金属氧酸盐的应用 | 第10-11页 |
·多金属氧酸盐的电化学研究 | 第11-12页 |
·POMs 基薄膜 | 第12-14页 |
·POMs 基薄膜的性质和用途 | 第12-13页 |
·POMs 基静电自组装多层膜的研究现状 | 第13-14页 |
·选题目的、意义 | 第14-15页 |
第二章 配合物的合成及表征 | 第15-33页 |
·配合物合成 | 第15-17页 |
·仪器与试剂 | 第15页 |
·Na_(5+n)[BV_nW_(12-n)O_(40)] (n = 1, 2, 3, 简写为BV_nW_(12-n))系列化合物合成 | 第15-16页 |
·K[Ln(BW_(11)O_(39))_2] ( Ln = La, Dy, Gd, Nd, Sm, Tb, Eu 简写为Ln(BW_(11)_2)系列化合物合成 | 第16页 |
·K[Ln(BVW_(10)O_(39))_2] ( Ln = La, Dy, Gd 简写为Ln(BV_2W_9)_2 )系列化合物合成 | 第16页 |
·K[Ln(BV_2W_9O_(39))_2]( Ln = La, Dy, Gd, Nd, Sm, Tb, Eu 简写为Ln(BV_2W_9)_2)系列化合物合成 | 第16-17页 |
·草酸与稀土硼钨钒系列化合物的反应产物合成 | 第17页 |
·丙二酸与稀土硼钨钒系列化合物的反应产物合成 | 第17页 |
·氨基乙酸与稀土硼钨钒系列化合物的反应产物合成 | 第17页 |
·表征 | 第17-32页 |
·红外光谱 | 第18-23页 |
·紫外-可见光谱 | 第23-25页 |
·X-射线粉末衍射 | 第25-27页 |
·扫描电镜 | 第27-29页 |
·X 射线光电子能谱 | 第29-32页 |
·小结 | 第32-33页 |
第三章 自组装膜的制备、表征 | 第33-41页 |
·实验部分 | 第33-34页 |
·实验试剂及仪器 | 第33页 |
·石英基片的处理 | 第33页 |
·自组装膜的制备过程 | 第33-34页 |
·结果与讨论 | 第34-40页 |
·成膜条件的研究 | 第34页 |
·紫外可见光谱 | 第34-38页 |
·( BVW_(11)/ BBr_2 )_(15) 多层膜 | 第34-35页 |
·(BV_3W_9/ BBr_2 )_(18) 多层膜 | 第35-37页 |
·(La(BV_2W_9)_2/ BBr_2 )_(18) 多层膜 | 第37-38页 |
·多层膜的稳定性 | 第38-40页 |
·小结 | 第40-41页 |
第四章 硼钨钒系列杂多配合物的电化学研究 | 第41-60页 |
·实验部分 | 第41页 |
·仪器与试剂 | 第41页 |
·实验方法 | 第41页 |
·结果与讨论 | 第41-60页 |
·BV_3W_9 的电化学研究 | 第45-56页 |
·BV_3W_9 在Na_2SO_4 - H_2SO_4 电解质溶液中的循环伏安行为 | 第45-46页 |
·扫描速率对BV_3W_9 循环伏安行为的影响 | 第46-47页 |
·底液pH 值对BV_3W_9 循环伏安行为的影响 | 第47-52页 |
·Na_8BV_3W_9O_(40) 的电催化还原 | 第52-56页 |
·K_(19)Eu(BW_(11)O_(39))_2 的电化学研究 | 第56-60页 |
·K_(19)Eu(BW_(11)O_(39))_2 在Na_2SO_4 - H_2SO_4 电解质溶液中的循环伏安行为 | 第56页 |
·扫描速率对K_(19)Eu(BW_(11)O_(39))_2 循环伏安行为的影响 | 第56-60页 |
第五章 硼钨矾杂多酸修饰电极的电化学研究 | 第60-67页 |
·实验部分 | 第60页 |
·仪器与试剂 | 第60页 |
·Na_8BV_3W_9O_(40) 修饰电极的制备 | 第60页 |
·结果与讨论 | 第60-67页 |
·Na_8BV_3W_9O_(40) 修饰电极在Na_2SO_4-H_2SO_4 电解质溶液中的循环伏安行为 | 第61页 |
·扫描速率对Na_8BV_3W_9O_(40) 修饰电极的循环伏安行为的影响 | 第61-62页 |
·底液pH 值对Na_8BV_3W_9O_(40) 修饰电极的循环伏安行为的影响 | 第62-66页 |
·Na_8BV_3W_9O_(40) 修饰电极对 NO_2~-的电催化还原 | 第66-67页 |
第六章 结论与展望 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-70页 |
已正式发表论文的情况 | 第70-71页 |
致谢 | 第71页 |