| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·几种双折射晶体性质比较及钒酸钇晶体的基本性质 | 第11-13页 |
| ·钒酸钇晶体在光纤中的应用 | 第13-15页 |
| ·光纤隔离器 | 第13-14页 |
| ·光纤位移器 | 第14页 |
| ·光纤环行器 | 第14-15页 |
| ·激光晶体概述 | 第15-19页 |
| ·激光历史 | 第15-16页 |
| ·激光晶体及其研究现状 | 第16-18页 |
| ·掺Nd~(3+)激光晶体 | 第18-19页 |
| ·掺钕钒酸钇（Nd:YVO_4）激光晶体的优点 | 第19-20页 |
| ·Nd:YVO_4 激光晶体的发展 | 第20-21页 |
| ·Nd:YVO_4 激光晶体的a 向生长 | 第21页 |
| ·本论文的选题依据及研究内容 | 第21-24页 |
| ·选题依据 | 第21-22页 |
| ·研究内容 | 第22-24页 |
| 参考文献 | 第24-27页 |
| 第二章 新方法提拉 Nd:YVO_4晶体理论模型的建立. | 第27-49页 |
| ·引言 | 第27-29页 |
| ·晶体生长的方法――提拉法 | 第27-28页 |
| ·传统提拉法生长Nd:YVO_4 晶体的工艺装置 | 第28页 |
| ·传统提拉法中的一些问题 | 第28-29页 |
| ·对提拉法生长的晶体缺陷方面的研究进展 | 第29页 |
| ·提拉法生长中的一些重要参数、概念 | 第29-35页 |
| ·结晶驱动力 | 第29-30页 |
| ·生长系统中的传质 | 第30-31页 |
| ·生长系统中的传热 | 第31-33页 |
| ·生长界面的稳定性 | 第33-34页 |
| ·界面形状 | 第34-35页 |
| ·实验过程 | 第35-36页 |
| ·实验的设计――“异形坩埚” | 第35-36页 |
| ·实验装置的建立及实验的简单过程 | 第36页 |
| ·铱金圆片的作用原理 | 第36-37页 |
| ·数学模型 | 第37-40页 |
| ·物理摸拟 | 第40-45页 |
| ·本章小节 | 第45-47页 |
| 参考文献 | 第47-49页 |
| 第三章 新方法提拉 Nd:YVO_4晶体的工艺探究及高品质 Nd:YVO_4晶体的各项性能数据表征 | 第49-68页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·实验部分 | 第49-52页 |
| ·仪器与设备 | 第49-50页 |
| ·药品与试剂 | 第50-51页 |
| ·晶体生长前的准备工作 | 第51页 |
| ·晶体生长 | 第51-52页 |
| ·结果与讨论 | 第52-65页 |
| ·“异形坩埚”的加工 | 第52-53页 |
| ·生长室构造 | 第53-54页 |
| ·装炉 | 第54-57页 |
| ·化料 | 第57-58页 |
| ·洗晶 | 第58页 |
| ·接种 | 第58-59页 |
| ·缩颈与放肩 | 第59-60页 |
| ·控径（等径生长） | 第60-61页 |
| ·退火 | 第61页 |
| ·晶体缺陷 | 第61-62页 |
| ·晶体形貌 | 第62-63页 |
| ·晶体器件的弱吸收性能 | 第63-64页 |
| ·理想情形下的新工艺设想 | 第64-65页 |
| ·本章小节 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 在读期间发表的学术论文 | 第69页 |