| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-34页 |
| ·等离子体的产生、特性及等离子体辅助化学气相沉积反应过程 | 第9-13页 |
| ·磁场与等离子体作用的理论 | 第13-16页 |
| ·原子层沉积技术（ALD） | 第16-26页 |
| ·氧化铝薄膜的特性、制备方法及应用 | 第26-32页 |
| ·本课题研究内容及意义 | 第32-34页 |
| 第二章 实验设备和方法 | 第34-39页 |
| ·磁场增强等离子体辅助原子层沉积的装置 | 第34-36页 |
| ·基片准备 | 第36-37页 |
| ·氧化铝薄膜的沉积 | 第37-39页 |
| 第三章 薄膜的表征 | 第39-52页 |
| ·原子层沉积氧化铝薄膜的在线表征 | 第39-46页 |
| ·原子层沉积氧化铝薄膜的离线表征 | 第46-52页 |
| 第四章 结果和讨论 | 第52-84页 |
| ·磁场的影响 | 第52-64页 |
| ·温度的影响 | 第64-69页 |
| ·进气口和样品台高度的影响 | 第69-70页 |
| ·在线诊断结果与分析 | 第70-84页 |
| 第五章 磁场增强等离子体辅助原子层沉积氧化铝薄膜的生长机理分析 | 第84-90页 |
| ·热原子层沉积机理 | 第84-85页 |
| ·等离子体辅助原子层沉积机理 | 第85-86页 |
| ·磁场增强等离子体辅助原子层沉积机理 | 第86-90页 |
| 第六章 结论和展望 | 第90-92页 |
| ·本文的主要研究成果与结论 | 第90页 |
| ·本文的创新之处 | 第90页 |
| ·进一步工作展望 | 第90-92页 |
| 致谢 | 第92-93页 |
| 参考文献 | 第93-95页 |
| 硕士期间发表的学术论文 | 第95页 |