摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-12页 |
第一章 绪论 | 第12-20页 |
·ZnO的晶体结构、性能和用途 | 第12-15页 |
·ZnO的晶体结构 | 第12-13页 |
·ZnO的性能和用途 | 第13-15页 |
·稀土元素掺杂ZnO薄膜研究 | 第15-16页 |
·稀土元素的电子层特征 | 第15页 |
·ZnO薄膜的掺杂研究现状 | 第15-16页 |
·阴极电沉积原理 | 第16-17页 |
·本课题研究意义及主要研究内容 | 第17-20页 |
第二章 温度对ZnO薄膜电沉积的影响 | 第20-37页 |
·引言 | 第20-21页 |
·电沉积ZnO体系的热力学分析 | 第21-26页 |
·热力学计算原理 | 第21-22页 |
·Zn(NO_3)_2体系的热力学处理 | 第22-26页 |
·实验部分 | 第26-28页 |
·实验仪器及试剂 | 第26-27页 |
·ZnO薄膜的制备方法 | 第27-28页 |
·样品的表征 | 第28页 |
·结果与讨论 | 第28-36页 |
·电沉积ZnO体系的电化学行为 | 第28-30页 |
·ZnO薄膜的晶体结构 | 第30-31页 |
·ZnO薄膜的微观形貌 | 第31-32页 |
·ZnO薄膜的热重-差热分析 | 第32-33页 |
·ZnO薄膜的光学性质 | 第33-35页 |
·ZnO薄膜的生长机理 | 第35-36页 |
·本章结论 | 第36-37页 |
第三章 高定向ZnO纳米棒阵列膜的制备及其光学性能 | 第37-46页 |
·引言 | 第37-38页 |
·实验部分 | 第38页 |
·ZnO阵列膜的制备方法 | 第38页 |
·样品的表征 | 第38页 |
·结果与讨论 | 第38-45页 |
·沉积体系的电流-时间曲线分析 | 第38-39页 |
·ZnO薄膜的形貌及组成分析 | 第39-41页 |
·ZnO薄膜的结构分析 | 第41-42页 |
·ZnO薄膜的光学性能分析 | 第42-44页 |
·电沉积ZnO体系的机理分析 | 第44-45页 |
·本章结论 | 第45-46页 |
第四章 ZnO/La(OH)_3共沉积膜的阴极电沉积研究 | 第46-62页 |
·引言 | 第46-47页 |
·La-NO_3-H_2O沉积体系的热力学分析 | 第47-54页 |
·热力学基本常数 | 第47-48页 |
·热力学计算原理 | 第48-50页 |
·ZnO/La(OH)_3共沉积体系的热力学处理 | 第50-54页 |
·实验部分 | 第54-55页 |
·ZnO/La(OH)_3共沉积膜的制备方法 | 第54页 |
·样品的表征 | 第54-55页 |
·结果与讨论 | 第55-61页 |
·掺杂离子浓度对沉积体系电流密度影响 | 第55-56页 |
·ZnO/La(OH)_3共沉积膜的形貌分析 | 第56-57页 |
·EDS检测 | 第57-58页 |
·热重-差热分析 | 第58-59页 |
·XRD分析 | 第59-60页 |
·共沉积膜的光学性质 | 第60-61页 |
·本章结论 | 第61-62页 |
第五章 结论 | 第62-64页 |
参考文献 | 第64-71页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第71-72页 |
致谢 | 第72页 |