| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-22页 |
| 1.1 引言 | 第8-9页 |
| 1.2 ZnO的特性 | 第9-14页 |
| 1.2.1 ZnO的基本特性 | 第10-12页 |
| 1.2.2 ZnO薄膜的光学特性 | 第12-13页 |
| 1.2.3 ZnO薄膜的电学特性 | 第13-14页 |
| 1.2.4 ZnO薄膜的其它特性 | 第14页 |
| 1.3 ZnO透明导电薄膜的制备 | 第14-17页 |
| 1.3.1 真空蒸发镀 | 第14-15页 |
| 1.3.2 磁控溅射 | 第15页 |
| 1.3.3 脉冲激光沉积 | 第15页 |
| 1.3.4 分子束外延 | 第15-16页 |
| 1.3.5 溶胶-凝胶法 | 第16页 |
| 1.3.6 金属有机化学气相沉积 | 第16-17页 |
| 1.4 ZnO透明导电薄膜的应用 | 第17-18页 |
| 1.4.1 太阳能电池 | 第17页 |
| 1.4.2 显示器 | 第17-18页 |
| 1.4.3 气敏传感器 | 第18页 |
| 1.4.4 其它应用 | 第18页 |
| 1.5 ZnO透明导电薄膜的研究现状 | 第18-20页 |
| 1.5.1 掺杂ZnO透明导电薄膜 | 第18-19页 |
| 1.5.2 柔性衬底掺杂ZnO透明导电薄膜 | 第19-20页 |
| 1.6 本论文的立体依据和主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 ZnO薄膜制备及表征 | 第22-33页 |
| 2.1 磁控溅射系统 | 第22-26页 |
| 2.1.1 溅射原理 | 第22-24页 |
| 2.1.2 磁控溅射设备 | 第24-25页 |
| 2.1.3 磁控溅射法设备的主要技术指标和实验参数 | 第25-26页 |
| 2.2 柔性衬底ZnO透明导电薄膜制备过程 | 第26-27页 |
| 2.2.1 溅射靶材 | 第26-27页 |
| 2.2.2 衬底预处理 | 第27页 |
| 2.2.3 直流磁控溅射镀膜 | 第27页 |
| 2.3 柔性衬底ZnO透明导电薄膜的性能表征 | 第27-33页 |
| 2.3.1 X射线衍射(XRD) | 第28-29页 |
| 2.3.2 扫描电子电镜(SEM) | 第29-30页 |
| 2.3.3 紫外-可见分光光度计(UV-VIS) | 第30-31页 |
| 2.3.4 薄膜测厚仪 | 第31页 |
| 2.3.5 四探针测试仪 | 第31-33页 |
| 第三章 柔性衬底透明导电薄膜的制备和性能研究 | 第33-63页 |
| 3.1 溅射时间对PI衬底GZO透明导电薄膜的影响 | 第33-39页 |
| 3.1.1 溅射时间对PI衬底GZO-TCO厚度的影响 | 第33-34页 |
| 3.1.2 溅射时间对PI衬底GZO-TCO结构性能的影响 | 第34-36页 |
| 3.1.3 溅射时间对PI衬底GZO-TCO电学性能的影响 | 第36-38页 |
| 3.1.4 溅射时间对PI衬底GZO-TCO光学性能的影响 | 第38-39页 |
| 3.2 溅射压强对PI衬底GZO透明导电薄膜的影响 | 第39-43页 |
| 3.2.1 溅射压强对PI衬底GZO-TCO沉积速率的影响 | 第39-40页 |
| 3.2.2 溅射压强对PI衬底GZO-TCO结构性能的影响 | 第40-42页 |
| 3.2.3 溅射压强对PI衬底GZO-TCO电学性能的影响 | 第42-43页 |
| 3.2.4 溅射压强对PI衬底GZO-TCO光学性能的影响 | 第43页 |
| 3.3 溅射功率对PI衬底GZO透明导电薄膜的影响 | 第43-48页 |
| 3.3.1 溅射功率对PI衬底GZO-TCO沉积速率的影响 | 第44页 |
| 3.3.2 溅射功率对PI衬底GZO-TCO结构性能的影响 | 第44-47页 |
| 3.3.3 溅射功率对PI衬底GZO-TCO电学性能的影响 | 第47-48页 |
| 3.3.4 溅射功率对PI衬底GZO-TCO光学性能的影响 | 第48页 |
| 3.4 靶基距对PI衬底GZO透明导电薄膜的影响 | 第48-54页 |
| 3.4.1 靶基距对PI衬底GZO-TCO沉积速率的影响 | 第49-50页 |
| 3.4.2 靶基距对PI衬底GZO-TCO结构性能的影响 | 第50-52页 |
| 3.4.3 靶基距对PI衬底GZO-TCO电学性能的影响 | 第52-53页 |
| 3.4.4 靶基距对PI衬底GZO-TCO光学性能的影响 | 第53-54页 |
| 3.5 溅射压强对PET衬底GZZO透明导电薄膜的影响 | 第54-62页 |
| 3.5.1 溅射压强对PET衬底GZZO-TCO沉积速率的影响 | 第54-55页 |
| 3.5.2 溅射压强对PET衬底GZZO-TCO结构性能的影响 | 第55-58页 |
| 3.5.3 溅射压强对PET衬底GZZO-TCO电学性能的影响 | 第58-59页 |
| 3.5.4 溅射压强对PET衬底GZZO-TCO光学性能的影响 | 第59-60页 |
| 3.5.5 不同溅射压强下PI衬底和PET衬底GZZO薄膜电学性能对比 | 第60-62页 |
| 3.6 本章小结 | 第62-63页 |
| 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 在学期间公开发表论文及著作情况 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
