稀土钨阴极表面活性层结构与价态研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 稀土钨热电子发射材料 | 第9-13页 |
| 1.1.1 热电子发射材料 | 第9-11页 |
| 1.1.2 稀土钨阴极的制备 | 第11-12页 |
| 1.1.3 铈钨热电子发射材料的研究进展 | 第12-13页 |
| 1.2 XPS表面分析技术及应用 | 第13-19页 |
| 1.2.1 光电子能谱仪介绍 | 第13-14页 |
| 1.2.2 XPS测试原理 | 第14-15页 |
| 1.2.3 XPS谱图的解释及其化学信息 | 第15-16页 |
| 1.2.4 XPS谱图的处理 | 第16-18页 |
| 1.2.5 表面分析技术在金属材料上的应用 | 第18-19页 |
| 1.3 论文研究的目的、实验方案 | 第19-21页 |
| 1.3.1 研究目的 | 第19页 |
| 1.3.2 方案设计 | 第19-21页 |
| 第二章 实验设备与测试方法 | 第21-29页 |
| 2.1 实验设备 | 第21-26页 |
| 2.1.1 多功能X射线光电子能谱系统 | 第21-22页 |
| 2.1.2 原位X射线衍射分析 | 第22-23页 |
| 2.1.3 俄歇电子能谱 | 第23-24页 |
| 2.1.4 扫描电子显微镜以及X射线能量色散 | 第24-25页 |
| 2.1.5 原子力显微镜 | 第25-26页 |
| 2.2 实验方法 | 第26-29页 |
| 第三章 表面活性层形貌结构及成分 | 第29-41页 |
| 3.1 热电子发射与表面活性层 | 第29-30页 |
| 3.2 SEM及EDS表征 | 第30-32页 |
| 3.3 AFM表征 | 第32-36页 |
| 3.4 AES表征 | 第36-38页 |
| 3.4.1 俄歇电子能谱成分分析 | 第36-37页 |
| 3.4.2 俄歇电子能谱深度分析 | 第37-38页 |
| 3.5 本章小结 | 第38-41页 |
| 第四章 表面活性层的价态研究 | 第41-53页 |
| 4.1 表面活性层各元素含量 | 第41-47页 |
| 4.1.1 XPS定量分析基础 | 第41-42页 |
| 4.1.2 实验及数据分析软件介绍 | 第42-44页 |
| 4.1.3 铈钨阴极表面成分定量分析 | 第44-47页 |
| 4.2 表面活性层各元素的价态组成 | 第47-51页 |
| 4.2.1 表面W的价态组成 | 第47-48页 |
| 4.2.2 表面O价态组成 | 第48-49页 |
| 4.2.3 表面Ce价态组成 | 第49-51页 |
| 4.3 本章小结 | 第51-53页 |
| 第五章 表面活性层的形成和演变过程 | 第53-73页 |
| 5.1 微观结构的转变过程 | 第53-55页 |
| 5.2 表面成分分布转变 | 第55-63页 |
| 5.2.1 EDS选区分析 | 第55-59页 |
| 5.2.2 EDS元素面分布图 | 第59-61页 |
| 5.2.3 俄歇能谱点分析 | 第61-63页 |
| 5.3 物相结构分析 | 第63-64页 |
| 5.4 价态转变规律 | 第64-70页 |
| 5.4.1 样品表面Ce含量 | 第64-66页 |
| 5.4.2 样品表面钨元素的转变 | 第66-68页 |
| 5.4.3 样品表面氧元素的转变 | 第68-69页 |
| 5.4.4 样品表面铈元素的转变 | 第69-70页 |
| 5.5 本章小结 | 第70-73页 |
| 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第79-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
