原子级厚度薄膜振动的光学探测
中文摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第9-17页 |
1.1 纳米机械系统的研究背景 | 第9-11页 |
1.2 纳米机械系统的研究现状 | 第11-14页 |
1.3 先进的纳米机械系统 | 第14-15页 |
1.4 本论文主要内容 | 第15-17页 |
第二章 薄膜振荡的探测原理 | 第17-25页 |
2.1 纳米机械器件的基本结构 | 第17-18页 |
2.2 薄膜振荡的电学探测原理 | 第18-21页 |
2.3 薄膜振荡的光学探测原理 | 第21-24页 |
2.4 本章小结 | 第24-25页 |
第三章 纳米机械器件的结构设计优化 | 第25-33页 |
3.1 单色光入射薄膜模型 | 第25-27页 |
3.1.1 时序图数列算法 | 第26页 |
3.1.2 传输矩阵算法 | 第26-27页 |
3.2 机械谐振器件的基底选择 | 第27-30页 |
3.3 硅基底上的氧化层对光响应度的影响 | 第30-32页 |
3.4 本章小结 | 第32-33页 |
第四章 实验前期准备和器件制备 | 第33-45页 |
4.1 实验前期准备 | 第33-36页 |
4.2 单层石墨烯薄膜和基底的制备 | 第36-42页 |
4.2.1 机械剥离获得石墨烯 | 第36-39页 |
4.2.2 硅基底的制备 | 第39-42页 |
4.3 薄膜的干法转移 | 第42-44页 |
4.4 本章小结 | 第44-45页 |
第五章 总结与展望 | 第45-47页 |
5.1 全文工作总结 | 第45-46页 |
5.2 未来工作的展望 | 第46-47页 |
参考文献 | 第47-55页 |
攻读硕士学位期间的成果 | 第55-56页 |
致谢 | 第56-58页 |