| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-27页 |
| 1.1 锡资源及国内外锡工业发展 | 第13-17页 |
| 1.2 锡的主要性质 | 第17-18页 |
| 1.3 锡的用途及应用前景 | 第18-21页 |
| 1.4 电沉积制备锡 | 第21-24页 |
| 1.4.1 水溶液中电沉积制备锡 | 第21-22页 |
| 1.4.2 离子液体中电沉积制备锡 | 第22-24页 |
| 1.5 其他制备纳米锡或锡基材料的方法 | 第24-25页 |
| 1.6 本文主要研究内容及创新点 | 第25-27页 |
| 1.6.1 主要研究内容 | 第25-26页 |
| 1.6.2 创新点 | 第26-27页 |
| 第二章 实验方法 | 第27-35页 |
| 2.1 实验试剂及仪器 | 第27-28页 |
| 2.2 离子液体及电解液的制备 | 第28-30页 |
| 2.2.1 [Bmim]HSO_4的合成 | 第28-29页 |
| 2.2.2 [Bmim]HSO_4-SnO电解液的制备 | 第29页 |
| 2.2.3 ChCl-EG离子液体的合成 | 第29-30页 |
| 2.2.4 ChCl-EG-SnCl_2·2H_2O电解液的制备 | 第30页 |
| 2.2.5 各组分离子液体电导率测试 | 第30页 |
| 2.3 电化学测试 | 第30-33页 |
| 2.3.1 电极预处理 | 第30-31页 |
| 2.3.2 循环伏安测试 | 第31-32页 |
| 2.3.3 阴极极化测试 | 第32页 |
| 2.3.4 电沉积实验 | 第32-33页 |
| 2.4 样品表征 | 第33-35页 |
| 2.4.1 扫描电镜(SEM)和能谱(EDS)检测 | 第33-34页 |
| 2.4.2 X射线衍射(XRD)检测 | 第34-35页 |
| 第三章 [Bmim]HSO_4-SnO电沉积制备Sn粉 | 第35-55页 |
| 3.1 [Bmim]HSO_4-SnO的电化学性质 | 第35-44页 |
| 3.1.1 [Bmim]HSO_4-SnO的电导率 | 第35-37页 |
| 3.1.2 [Bmim]HSO_4-SnO的循环伏安 | 第37-41页 |
| 3.1.3 [Bmim]HSO_4-SnO的阴极极化曲线 | 第41-44页 |
| 3.2 [Bmim]HSO_4-SnO沉积层的研究 | 第44-54页 |
| 3.2.1 电沉积过程 | 第44-45页 |
| 3.2.2 电沉积过程的影响因素 | 第45-47页 |
| 3.2.3 浓度对沉积Sn粉的影响 | 第47-48页 |
| 3.2.4 掺水量对沉积Sn粉的影响 | 第48-51页 |
| 3.2.5 沉积电位对沉积Sn粉的影响 | 第51-54页 |
| 3.3 本章小结 | 第54-55页 |
| 第四章 ChCl-EG-SnCl_2·2H_2O电沉积制备Sn粉 | 第55-75页 |
| 4.1 ChCl-EG-SnCl_2·2H_2O的电化学性质 | 第55-69页 |
| 4.1.1 ChCl-EG-SnCl_2·2H_2O的电导率 | 第55-56页 |
| 4.1.2 ChCl-EG-SnCl_2·2H_2O的循环伏安 | 第56-69页 |
| 4.2 ChCl-EG-SnCl_2·2H_2O沉积层的研究 | 第69-74页 |
| 4.2.1 掺水量对沉积Sn粉的影响 | 第69-71页 |
| 4.2.2 沉积电位对沉积Sn粉的影响 | 第71-74页 |
| 4.3 本章小结 | 第74-75页 |
| 第五章 结论与展望 | 第75-77页 |
| 5.1 结论 | 第75-76页 |
| 5.2 展望 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-87页 |
| 附录 | 第87页 |
