| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 研究工作的背景与意义 | 第10-14页 |
| 1.1.1 激光概述 | 第10-11页 |
| 1.1.2 激光与物质的相互作用 | 第11-12页 |
| 1.1.3 激光惯性约束核聚变 | 第12-13页 |
| 1.1.4 熔石英材料的损伤概述 | 第13-14页 |
| 1.2 熔石英材料的研究进展 | 第14-16页 |
| 1.3 本文的主要研究内容及意义 | 第16-18页 |
| 第二章 激光辐照熔石英材料理论基础及研究方法 | 第18-24页 |
| 2.1 分子动力学分析方法 | 第18-20页 |
| 2.1.1 分子动力学计算流程 | 第18-19页 |
| 2.1.2 初始条件与边界条件 | 第19页 |
| 2.1.3 系综和系综调节 | 第19-20页 |
| 2.2 常用的结构表征参数 | 第20-21页 |
| 2.2.1 配位数 | 第20-21页 |
| 2.2.2 键角分布函数 | 第21页 |
| 2.3 DL_POLY和LAMMPS概述 | 第21-23页 |
| 2.3.1 输入文件 | 第22页 |
| 2.3.2 输出文件 | 第22-23页 |
| 2.4 本章小结 | 第23-24页 |
| 第三章 激光辐照对理想熔石英结构影响的分子动力学分析 | 第24-60页 |
| 3.1 建立石英晶体结构的物理模型 | 第24-28页 |
| 3.2 建立熔石英的激光加载模型 | 第28页 |
| 3.3 激光辐照理想熔石英的分子动力学分析 | 第28-58页 |
| 3.3.1 立方体辐照区域 | 第28-39页 |
| 3.3.2 圆锥体辐照区域 | 第39-45页 |
| 3.3.3 半球体辐照区域 | 第45-51页 |
| 3.3.4 圆柱体辐照区域 | 第51-57页 |
| 3.3.5 不同辐照区域计算结果比较 | 第57-58页 |
| 3.4 本章小结 | 第58-60页 |
| 第四章 激光辐照对含表面缺陷熔石英结构影响的物理过程分析 | 第60-95页 |
| 4.1 建立含缺陷熔石英结构的物理模型 | 第60页 |
| 4.2 不同表面缺陷的熔石英结构的分子动力学分析 | 第60-82页 |
| 4.2.1 立方体表面缺陷的熔石英结构分析 | 第61-68页 |
| 4.2.2 圆锥体表面缺陷的熔石英结构分析 | 第68-72页 |
| 4.2.3 半球体表面缺陷的熔石英结构分析 | 第72-77页 |
| 4.2.4 圆柱体表面缺陷的熔石英结构分析 | 第77-82页 |
| 4.3 不同辐照区域下含表面缺陷的熔石英结构的分子动力学分析 | 第82-91页 |
| 4.3.1 立方体表面缺陷下区域变化的熔石英结构分析 | 第82-84页 |
| 4.3.2 圆锥体表面缺陷下区域变化的熔石英结构分析 | 第84-87页 |
| 4.3.3 半球体表面缺陷下区域变化的熔石英结构分析 | 第87-89页 |
| 4.3.4 圆柱体表面缺陷下区域变化的熔石英结构分析 | 第89-91页 |
| 4.4 不同表面缺陷的熔石英在相同深度区域下的分子动力学分析 | 第91-93页 |
| 4.5 本章小结 | 第93-95页 |
| 第五章 总结和展望 | 第95-98页 |
| 5.1 全文总结 | 第95-97页 |
| 5.1.1 理论以及研究方法部分 | 第95页 |
| 5.1.2 模拟部分 | 第95-97页 |
| 5.2 后续工作展望 | 第97-98页 |
| 致谢 | 第98-99页 |
| 参考文献 | 第99-106页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第106页 |
