铜盐体系镁合金MAO黑色膜层制备及热控性能研究
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
第1章 绪论 | 第9-18页 |
1.1 课题来源及研究的目的和意义 | 第9-10页 |
1.2 镁合金微MAO技术概述 | 第10-12页 |
1.2.1 镁合金MAO技术电解液体系 | 第10-12页 |
1.2.2 镁合金MAO技术电参数 | 第12页 |
1.3 镁合金MAO有色膜层研究现状 | 第12-13页 |
1.4 镁合金MAO膜层的性能研究 | 第13-15页 |
1.5 MAO技术制备热控涂层进展 | 第15-17页 |
1.6 本论文研究内容 | 第17-18页 |
第2章 实验材料和研究方法 | 第18-21页 |
2.1 实验材料及化学药品 | 第18页 |
2.2 实验设备及样品制备过程 | 第18-19页 |
2.2.1 实验设备 | 第18-19页 |
2.2.2 实验步骤 | 第19页 |
2.3 膜层表征方法 | 第19-20页 |
2.3.1 膜层厚度测量 | 第19-20页 |
2.3.2 膜层粗糙度测量 | 第20页 |
2.3.3 膜层表面形貌与元素含量分析 | 第20页 |
2.3.4 膜层的色度值分析 | 第20页 |
2.3.5 膜层相组成分析 | 第20页 |
2.4 膜层热控性能测试 | 第20-21页 |
第3章 硅酸盐体系膜层制备及热控性能研究 | 第21-41页 |
3.1 微弧氧化电解液体系的确定 | 第21-25页 |
3.1.1 正交法确定工艺参数 | 第21-22页 |
3.1.2 实验结果评定 | 第22-25页 |
3.2 电解液浓度对膜层结构与热控性能的影响 | 第25-32页 |
3.2.1 硅酸钠浓度 | 第25-28页 |
3.2.2 硫酸铜浓度 | 第28-32页 |
3.3 电参数对膜层结构与热控性能的影响 | 第32-37页 |
3.3.1 电源频率 | 第32-34页 |
3.3.2 电流密度 | 第34-37页 |
3.4 反应时间对膜层结构与热控性能的影响 | 第37-40页 |
3.4.1 膜层厚度和粗糙度 | 第37页 |
3.4.2 膜层的形貌 | 第37-38页 |
3.4.3 膜层的晶相组成 | 第38-39页 |
3.4.4 膜层的热控性能 | 第39-40页 |
3.5 本章小结 | 第40-41页 |
第4章 磷酸盐体系膜层制备及热控性能研究 | 第41-70页 |
4.1 电解液浓度对膜层结构与热控性能的影响 | 第41-50页 |
4.1.1 磷酸盐浓度 | 第41-45页 |
4.1.2 硫酸铜浓度 | 第45-50页 |
4.2 电参数对膜层结构与热控性能的影响 | 第50-55页 |
4.2.1 电源频率 | 第50-52页 |
4.2.2 电流密度 | 第52-55页 |
4.3 反应时间对膜层结构与热控性能的影响 | 第55-58页 |
4.3.1 膜层厚度与粗糙度 | 第55-56页 |
4.3.2 膜层的形貌 | 第56-57页 |
4.3.3 膜层的晶相组成 | 第57页 |
4.3.4 膜层的热控性能 | 第57-58页 |
4.4 金属离子掺杂对膜层结构与热控性能的影响 | 第58-66页 |
4.4.1 Co~(2+)的掺杂 | 第58-60页 |
4.4.2 Fe~(2+)的掺杂 | 第60-63页 |
4.4.3 Ni~(2+)的掺杂 | 第63-66页 |
4.6 硅酸钠体系和磷酸盐体系膜层热控性能对比 | 第66-68页 |
4.7 本章小结 | 第68-70页 |
第5章 铝酸盐体系膜层制备及热控性能研究 | 第70-88页 |
5.1 电解液浓度对膜层结构与热控性能的影响 | 第70-79页 |
5.1.1 铝酸钠浓度 | 第70-74页 |
5.1.2 硫酸铜浓度 | 第74-79页 |
5.2 电参数对膜层结构与热控性能的影响 | 第79-83页 |
5.2.1 电源频率 | 第79-81页 |
5.2.2 电流密度 | 第81-83页 |
5.3 微弧氧化时间对膜层结构与热控性能的影响 | 第83-86页 |
5.3.1 膜层厚度与粗糙度 | 第84页 |
5.3.2 膜层的形貌影响 | 第84-85页 |
5.3.3 膜层的晶相组成 | 第85页 |
5.3.4 膜层的热控性能 | 第85-86页 |
5.4 膜层结构与热控性能关系的分析 | 第86页 |
5.5 本章小结 | 第86-88页 |
结论 | 第88-89页 |
参考文献 | 第89-96页 |
攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第96-98页 |
致谢 | 第98页 |