谐振腔与量子点耦合体系的研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第一章 研究背景介绍 | 第11-25页 |
| 1.1 量子计算的基本概念 | 第11-20页 |
| 1.1.1 基本结构 | 第13-14页 |
| 1.1.2 单量子点的性质 | 第14-18页 |
| 1.1.3 双量子点的性质 | 第18-20页 |
| 1.2 量子点中的电荷量子比特编码 | 第20-22页 |
| 1.3 本文的结构 | 第22-25页 |
| 第二章 量子点的制备和基本性质表征 | 第25-41页 |
| 2.1 半导体量子点的制作工艺 | 第25-31页 |
| 2.2 低温测量平台 | 第31-36页 |
| 2.3 门控量子点的基本测量方法 | 第36-41页 |
| 第三章 谐振腔的设计和制备 | 第41-67页 |
| 3.1 谐振的一般理论 | 第41-46页 |
| 3.1.1 集总振荡电路 | 第41-43页 |
| 3.1.2 传输线谐振电路 | 第43-45页 |
| 3.1.3 有载和无载Q | 第45页 |
| 3.1.4 量子化描述 | 第45-46页 |
| 3.2 透射式共面波导传输线谐振腔 | 第46-53页 |
| 3.2.1 设计模拟 | 第46-51页 |
| 3.2.2 制作加工 | 第51-52页 |
| 3.2.3 测量表征 | 第52-53页 |
| 3.3 反射式耦合线传输线谐振腔 | 第53-59页 |
| 3.3.1 传输线实现 | 第53-55页 |
| 3.3.2 谐振腔分析 | 第55-57页 |
| 3.3.3 制作加工 | 第57页 |
| 3.3.4 测量表征 | 第57-59页 |
| 3.4 3D谐振腔 | 第59-67页 |
| 3.4.1 设计模拟 | 第59-62页 |
| 3.4.2 模拟 | 第62-63页 |
| 3.4.3 测量表征 | 第63-67页 |
| 第四章 二维电子气对谐振腔调谐性质研究 | 第67-75页 |
| 4.1 实验动机 | 第67页 |
| 4.2 样品结构和测量 | 第67-69页 |
| 4.3 结果讨论 | 第69页 |
| 4.4 可调谐谐振腔 | 第69-73页 |
| 4.5 本章小结 | 第73-75页 |
| 第五章 谐振腔测量量子点导纳性质 | 第75-81页 |
| 5.1 实验动机 | 第75页 |
| 5.2 样品结构和测量 | 第75-78页 |
| 5.3 结果分析 | 第78-79页 |
| 5.4 本章小结 | 第79-81页 |
| 第六章 谐振腔与量子点的耦合 | 第81-93页 |
| 6.1 腔电动力学的基本理论 | 第81-87页 |
| 6.1.1 光与原子的相互作用 | 第81-85页 |
| 6.1.2 量子点与腔的耦合 | 第85-87页 |
| 6.2 实验样品结构 | 第87-90页 |
| 6.3 结果分析 | 第90-91页 |
| 6.4 本章小结 | 第91-93页 |
| 参考文献 | 第93-95页 |
| 附录A 微纳加工工艺 | 第95-99页 |
| A.1 基片清洁 | 第95页 |
| A.2 光刻工艺 | 第95-96页 |
| A.3 刻蚀工艺 | 第96页 |
| A.4 电子束曝光工艺 | 第96-98页 |
| A.5 退火 | 第98-99页 |
| 致谢 | 第99-101页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第101页 |
