| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 集成光学 | 第10-11页 |
| 1.2.1 集成光学的优点 | 第10页 |
| 1.2.2 集成光学器件的材料 | 第10-11页 |
| 1.3 介质光波导 | 第11页 |
| 1.3.3 介质光波导的分类 | 第11页 |
| 1.3.4 介质光波导器件的应用 | 第11页 |
| 1.4 铌酸锂(LiNbO_3)晶体 | 第11-13页 |
| 1.4.5 铌酸锂晶体的应用 | 第11-12页 |
| 1.4.6 铌酸锂(LiNbO_3)晶体的结构 | 第12页 |
| 1.4.7 铌酸锂晶体的掺杂工程 | 第12-13页 |
| 1.5 本论文主要工作和意义 | 第13-15页 |
| 第二章 光在波导中的传输特性 | 第15-35页 |
| 2.1 麦克斯韦方程组 | 第15-19页 |
| 2.1.1 物质方程 | 第16-17页 |
| 2.1.2 波动方程 | 第17-18页 |
| 2.1.3 电磁场的边界条件 | 第18-19页 |
| 2.2 介质平板波导的分析 | 第19-29页 |
| 2.2.1 平面波导的线光学模型 | 第19-24页 |
| 2.2.2 平面波导电磁场理论 | 第24-29页 |
| 2.3 矩形介质波导的分析 | 第29-35页 |
| 2.3.1 马卡提力近似法 | 第29-35页 |
| 第三章 光波导制备相关技术及表征手段 | 第35-45页 |
| 3.1 光波导的制备工艺 | 第35-36页 |
| 3.2 镀膜工艺介绍 | 第36-39页 |
| 3.2.1 磁控溅射镀膜 | 第36-37页 |
| 3.2.2 热蒸发镀膜 | 第37-39页 |
| 3.3 光刻技术介绍 | 第39-40页 |
| 3.4 铌酸锂晶体的气相运输平衡 | 第40-41页 |
| 3.4.1 VTE坩埚的制作 | 第40-41页 |
| 3.4.2 VTE处理具体过程 | 第41页 |
| 3.5 棱镜耦合技术 | 第41-44页 |
| 3.6 本章总结 | 第44-45页 |
| 第四章 Zr~(4+)在铌酸锂晶体中的扩散特性 | 第45-59页 |
| 4.1 铌酸锂晶体离子扩散的理论基础 | 第45-49页 |
| 4.1.1 固体内扩散的基本理论 | 第45-48页 |
| 4.1.2 影响扩散的因素 | 第48-49页 |
| 4.2 Zr~(4+)在铌酸锂晶体中的扩散特性 | 第49-58页 |
| 4.2.1 实验过程的描述 | 第49-53页 |
| 4.2.2 实验结果及其分析 | 第53-58页 |
| 4.3 总结 | 第58-59页 |
| 第五章 Zr:Ti: LiNbO_3条形光波导的制备及表征 | 第59-74页 |
| 5.1 Zr:Ti: LiNbO_3条形光波导的制备 | 第59-64页 |
| 5.1.1 掺Zr铌酸锂晶体的制备 | 第59-60页 |
| 5.1.2 同成分Zr:Ti: LiNbO_3条形光波导的制备 | 第60-64页 |
| 5.1.3 近化学计量比Zr:Ti: LiNbO_3条形光波导的制备 | 第64页 |
| 5.2 Zr:Ti: LiNbO_3条形光波导性能的表征 | 第64-71页 |
| 5.2.1 晶体组分的表征 | 第64-66页 |
| 5.2.2 两种条形波导的模场分布 | 第66-70页 |
| 5.2.3 两种条形波导的传输损耗 | 第70-71页 |
| 5.3 Zr对折射率的影响 | 第71-73页 |
| 5.4 总结 | 第73-74页 |
| 第六章 总结与展望 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-78页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
