| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 PDP的发展历史 | 第11-12页 |
| 1.3 PDP研究现状 | 第12-15页 |
| 1.3.1 PDP障壁结构的研究 | 第12-13页 |
| 1.3.2 PDP电极结构的研究 | 第13-15页 |
| 1.4 本课题的研究意义 | 第15页 |
| 1.5 论文的主要内容 | 第15-17页 |
| 第二章 气体放电理论及PDP工作原理 | 第17-29页 |
| 2.1 气体放电理论 | 第17-20页 |
| 2.1.1 汤生放电理论 | 第18-19页 |
| 2.1.2 帕邢定律与着火电压 | 第19-20页 |
| 2.2 PDP的结构和工作原理 | 第20-25页 |
| 2.2.1 PDP的结构 | 第20-22页 |
| 2.2.2 AC-PDP的工作原理 | 第22-25页 |
| 2.3 改变放电单元结构的可行性分析 | 第25-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 PDP放电单元结构与放电空间电场关系的研究 | 第29-39页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 数值模拟计算理论 | 第29-30页 |
| 3.3 PDP放电单元内电场的模拟计算 | 第30-38页 |
| 3.3.1 电极间距对放电空间内电场的影响 | 第32-34页 |
| 3.3.2 电极形状对放电空间内电场的影响 | 第34-36页 |
| 3.3.3 介质层厚度对放电空间内电场的影响 | 第36-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 PDP放电测试片的制备 | 第39-55页 |
| 4.1 引言 | 第39页 |
| 4.2 掩膜版的设计 | 第39-40页 |
| 4.3 利用光刻技术制备X/Y电极 | 第40-47页 |
| 4.3.1 光刻工艺原理 | 第40-41页 |
| 4.3.2 光刻工艺流程 | 第41-45页 |
| 4.3.3 刻蚀工艺 | 第45-47页 |
| 4.4 利用丝网印刷技术制备介质层 | 第47-53页 |
| 4.4.1 丝网印刷的原理 | 第47-49页 |
| 4.4.2 介质浆料 | 第49-53页 |
| 4.5 利用电子束蒸镀法制备介质保护层 | 第53-54页 |
| 4.6 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 PDP放电性能的研究 | 第55-71页 |
| 5.1 引言 | 第55页 |
| 5.2 介质层击穿电压和击穿场强 | 第55-59页 |
| 5.2.1 介质层击穿电压的测试 | 第55-57页 |
| 5.2.2 不同电极结构介质层内的最大场强 | 第57-59页 |
| 5.3 放电性能测试环境及条件 | 第59-61页 |
| 5.4 AC-PDP的放电性能分析 | 第61-69页 |
| 5.4.1 放电测试条件对放电电压的影响 | 第62-64页 |
| 5.4.2 电极结构对PDP放电电压的影响 | 第64-69页 |
| 5.5 PDP发光亮度的测试方案 | 第69-70页 |
| 5.6 本章小结 | 第70-71页 |
| 第六章 结论与展望 | 第71-73页 |
| 6.1 总结 | 第71-72页 |
| 6.2 下一步工作展望 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |