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射频磁控溅射制备金属/CrN薄膜及其特性研究

摘要第6-8页
Abstract第8-9页
第一章 绪论第17-21页
    1.1 CrN薄膜结构及其特性第17-18页
    1.2 单层CrN薄膜研究现状第18页
    1.3 多层CrN薄膜研究现状第18-19页
    1.4 论文的研究目的及意义第19-21页
第二章 CrN薄膜的制备、高温热处理技术及表征方法第21-27页
    2.1 CrN薄膜的制备技术第21-22页
    2.2 CrN薄膜的高温热处理技术第22-23页
    2.3 CrN薄膜的表征方法第23-27页
        2.3.1 X射线衍射(XRD)第23-24页
        2.3.2 扫描电子显微镜(SEM)及能量色散X射线光谱仪(EDX)第24页
        2.3.3 紫外可见近红外(UV-VIS-NIR)分光光度计第24-25页
        2.3.4 四探针电阻率测试仪第25-26页
        2.3.5 X射线光电子能谱仪(XPS)第26-27页
第三章 Si(100)及ITO玻璃衬底上CrN薄膜的制备及其特性研究第27-57页
    3.1 Si衬底上CrN薄膜的制备及其特性研究第27-47页
        3.1.1 Si衬底上CrN薄膜的结构特性第28-35页
        3.1.2 Si衬底上CrN薄膜的高温抗氧化性第35-42页
        3.1.3 Si衬底上CrN薄膜的电学特性第42-44页
        3.1.4 Si衬底上CrN薄膜的光学特性第44-47页
    3.2 ITO玻璃衬底上CrN薄膜的制备及其特性研究第47-57页
        3.2.1 ITO玻璃衬底上CrN薄膜的制备及其结构第47-51页
        3.2.2 ITO玻璃衬底上CrN薄膜的表面形貌第51-52页
        3.2.3 ITO玻璃衬底上CrN薄膜的电学特性第52-54页
        3.2.4 ITO玻璃衬底上CrN薄膜的光学特性第54-57页
第四章 金属/CrN多层薄膜的制备及其特性研究第57-84页
    4.1 Cr/CrN多层薄膜的制备及其特性研究第58-71页
        4.1.1 Cr/CrN多层薄膜的结构特性第58-62页
        4.1.2 Cr/CrN多层薄膜的高温抗氧化性研究第62-69页
        4.1.3 Cr/CrN多层薄膜的电学特性第69-71页
    4.2 Ti/CrN多层薄膜的制备及其特性研究第71-84页
        4.2.1 Ti/CrN多层薄膜的结构特性第71-75页
        4.2.2 Ti/CrN多层薄膜的高温抗氧化性研究第75-82页
        4.2.3 Ti/CrN多层薄膜的电学特性第82-84页
第五章 结论第84-87页
参考文献第87-92页
致谢第92-94页
附录A:攻读硕士期间发表的文章第94-95页

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