| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第17-21页 |
| 1.1 CrN薄膜结构及其特性 | 第17-18页 |
| 1.2 单层CrN薄膜研究现状 | 第18页 |
| 1.3 多层CrN薄膜研究现状 | 第18-19页 |
| 1.4 论文的研究目的及意义 | 第19-21页 |
| 第二章 CrN薄膜的制备、高温热处理技术及表征方法 | 第21-27页 |
| 2.1 CrN薄膜的制备技术 | 第21-22页 |
| 2.2 CrN薄膜的高温热处理技术 | 第22-23页 |
| 2.3 CrN薄膜的表征方法 | 第23-27页 |
| 2.3.1 X射线衍射(XRD) | 第23-24页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜(SEM)及能量色散X射线光谱仪(EDX) | 第24页 |
| 2.3.3 紫外可见近红外(UV-VIS-NIR)分光光度计 | 第24-25页 |
| 2.3.4 四探针电阻率测试仪 | 第25-26页 |
| 2.3.5 X射线光电子能谱仪(XPS) | 第26-27页 |
| 第三章 Si(100)及ITO玻璃衬底上CrN薄膜的制备及其特性研究 | 第27-57页 |
| 3.1 Si衬底上CrN薄膜的制备及其特性研究 | 第27-47页 |
| 3.1.1 Si衬底上CrN薄膜的结构特性 | 第28-35页 |
| 3.1.2 Si衬底上CrN薄膜的高温抗氧化性 | 第35-42页 |
| 3.1.3 Si衬底上CrN薄膜的电学特性 | 第42-44页 |
| 3.1.4 Si衬底上CrN薄膜的光学特性 | 第44-47页 |
| 3.2 ITO玻璃衬底上CrN薄膜的制备及其特性研究 | 第47-57页 |
| 3.2.1 ITO玻璃衬底上CrN薄膜的制备及其结构 | 第47-51页 |
| 3.2.2 ITO玻璃衬底上CrN薄膜的表面形貌 | 第51-52页 |
| 3.2.3 ITO玻璃衬底上CrN薄膜的电学特性 | 第52-54页 |
| 3.2.4 ITO玻璃衬底上CrN薄膜的光学特性 | 第54-57页 |
| 第四章 金属/CrN多层薄膜的制备及其特性研究 | 第57-84页 |
| 4.1 Cr/CrN多层薄膜的制备及其特性研究 | 第58-71页 |
| 4.1.1 Cr/CrN多层薄膜的结构特性 | 第58-62页 |
| 4.1.2 Cr/CrN多层薄膜的高温抗氧化性研究 | 第62-69页 |
| 4.1.3 Cr/CrN多层薄膜的电学特性 | 第69-71页 |
| 4.2 Ti/CrN多层薄膜的制备及其特性研究 | 第71-84页 |
| 4.2.1 Ti/CrN多层薄膜的结构特性 | 第71-75页 |
| 4.2.2 Ti/CrN多层薄膜的高温抗氧化性研究 | 第75-82页 |
| 4.2.3 Ti/CrN多层薄膜的电学特性 | 第82-84页 |
| 第五章 结论 | 第84-87页 |
| 参考文献 | 第87-92页 |
| 致谢 | 第92-94页 |
| 附录A：攻读硕士期间发表的文章 | 第94-95页 |
