| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 稀土工业生产中铀和钍的分离方法 | 第12-18页 |
| 1.2.1 浓硫酸高温强化焙烧法 | 第12-14页 |
| 1.2.2 沉淀法 | 第14-15页 |
| 1.2.3 氧化焙烧-盐酸浸出法 | 第15-16页 |
| 1.2.4 溶剂萃取法 | 第16-18页 |
| 1.3 固相吸附法分离稀土中的铀和钍 | 第18-19页 |
| 1.4 本论文设计思路与研究工作 | 第19-20页 |
| 参考文献 | 第20-25页 |
| 第2章 邻菲罗啉二酰胺功能化F-SiO_2对U(Ⅵ)和Th(Ⅳ)吸附性能研究 | 第25-51页 |
| 2.1 引言 | 第25-26页 |
| 2.2 实验部分 | 第26-29页 |
| 2.2.1 药品与试剂 | 第26页 |
| 2.2.2 邻菲罗啉二酰胺功能化放射状介孔二氧化硅的制备 | 第26-27页 |
| 2.2.3 吸附实验 | 第27-29页 |
| 2.2.4 表征与测试 | 第29页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第29-47页 |
| 2.3.1 邻菲罗啉二酰胺功能化F-SiO_2的制备和表征 | 第29-36页 |
| 2.3.2 F-SiO_2-DP对U(Ⅵ)和Th(Ⅳ)的吸附行为研究 | 第36-47页 |
| 2.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-51页 |
| 第3章 F-SiO_2-DP的辐射稳定性研究 | 第51-61页 |
| 3.1 引言 | 第51-52页 |
| 3.2 实验部分 | 第52-56页 |
| 3.2.1 药品与试剂 | 第52页 |
| 3.2.2 γ射线对F-SiO_2-DP辐照实验 | 第52-53页 |
| 3.2.3 制备N,N'-二乙基-N,N'-二甲苯基-2,9-二酰胺-1,10-邻菲罗啉 | 第53页 |
| 3.2.4 脉冲辐解实验 | 第53-54页 |
| 3.2.5 F-SiO_2-DP辐照前后对U(Ⅵ)和Th(Ⅳ)的吸附实验 | 第54页 |
| 3.2.6 F-SiO_2-DP辐照后对U(Ⅵ)和Th(Ⅳ)的选择性吸附实验 | 第54-55页 |
| 3.2.7 表征与测试 | 第55-56页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第56-59页 |
| 3.3.1 F-SiO_2-DP的辐射稳定性研究 | 第56-58页 |
| 3.3.2 DP的脉冲辐解研究 | 第58-59页 |
| 3.4 本章总结 | 第59页 |
| 参考文献 | 第59-61页 |
| 第4章 改性氮化硼对U(Ⅵ)和Th(Ⅳ)吸附性能研究 | 第61-75页 |
| 4.1 引言 | 第61-62页 |
| 4.2 实验部分 | 第62-64页 |
| 4.2.1 药品与试剂 | 第62页 |
| 4.2.2 多巴胺和APTES协同改性氮化硼 | 第62页 |
| 4.2.3 BN@PDA+APTES对U(Ⅵ)或Th(Ⅳ)的吸附实验 | 第62-63页 |
| 4.2.4 表征与测试 | 第63-64页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第64-71页 |
| 4.3.1 BN@PDA+APTES的制备和表征 | 第64-67页 |
| 4.3.2 BN@PDA+APTES对U(Ⅵ)和Th(Ⅳ)的吸附行为研究 | 第67-71页 |
| 4.4 本章小结 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-75页 |
| 第5章 论文总结与展望 | 第75-77页 |
| 致谢 | 第77-79页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第79页 |
