| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-16页 |
| 1.1 研究的目的和意义 | 第11-12页 |
| 1.2 国内外研究现状及进展 | 第12-14页 |
| 1.2.1 国内外关于 Ta-N 薄膜材料的研究进展 | 第12-14页 |
| 1.2.2 国内外关于微波薄膜匹配负载的研究进展 | 第14页 |
| 1.3 选题依据 | 第14-15页 |
| 1.4 研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 Ta-N 薄膜制备及性能研究 | 第16-30页 |
| 2.1 薄膜的制备以及测试方法简介 | 第16-18页 |
| 2.2 Ta 与 Ta-N 多层膜的薄膜微结构与电性能 | 第18-21页 |
| 2.2.1 不同 Ta/Ta-N 溅射时间条件对薄膜相结构的影响 | 第18-20页 |
| 2.2.2 不同 Ta/Ta-N 溅射时间条件对薄膜电阻率的影响 | 第20-21页 |
| 2.2.3 不同 Ta/Ta-N 溅射时间条件对薄膜 TCR 的影响 | 第21页 |
| 2.3 快速退火工艺对 Ta-N 薄膜的影响 | 第21-26页 |
| 2.3.0 快速退火工艺对 Ta-N 薄膜微结构的影响 | 第22-23页 |
| 2.3.1 快速退火工艺对 Ta-N 薄膜相结构的影响 | 第23-24页 |
| 2.3.2 快速退火工艺对 Ta-N 薄膜电阻率的影响 | 第24-25页 |
| 2.3.4 快速退火工艺对 Ta-N 薄膜 TCR 的影响 | 第25-26页 |
| 2.4 掺杂 Si 对 Ta-N 薄膜的影响 | 第26-29页 |
| 2.4.1 Si/Ta 面积比对 Ta-N 薄膜相结构的影响 | 第27-28页 |
| 2.4.2 Si/Ta 面积比对 Ta-N 薄膜电阻率的影响 | 第28页 |
| 2.4.3 Si/Ta 面积比对 Ta-N 薄膜 TCR 的影响 | 第28-29页 |
| 2.5 小结 | 第29-30页 |
| 第三章 薄膜匹配负载的设计与仿真 | 第30-54页 |
| 3.1 微波功率薄膜匹配负载的基本结构 | 第30页 |
| 3.2 微波薄膜负载结构主要性能参数分析 | 第30-31页 |
| 3.3 微波薄膜匹配负载的阻抗匹配方法 | 第31-34页 |
| 3.3.1 二项式多节匹配变换器 | 第31-32页 |
| 3.3.2 实频数据法 | 第32页 |
| 3.3.3 驻波比法 | 第32-34页 |
| 3.4 微波薄膜匹配负载的设计与仿真 | 第34-52页 |
| 3.4.1 微波薄膜匹配负载的设计与仿真方法 | 第34-42页 |
| 3.4.2 微波薄膜匹配负载的设计与仿真结果 | 第42-47页 |
| 3.4.3 薄膜匹配负载的功率负载仿真 | 第47-52页 |
| 3.5 小结 | 第52-54页 |
| 第四章 薄膜匹配负载的制备与测试 | 第54-64页 |
| 4.1 微波薄膜匹配负载的制备 | 第54-56页 |
| 4.2 微波薄膜匹配负载的微波性能测试 | 第56-60页 |
| 4.3 微波薄膜匹配负载的功率承载测试 | 第60-63页 |
| 4.4 小结 | 第63-64页 |
| 第五章 总结与展望 | 第64-67页 |
| 5.1 结论 | 第64-65页 |
| 5.2 展望 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第71-72页 |
