| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| 1.1 场发射理论概述 | 第8-13页 |
| 1.1.1 场发射显示原理与基本结构 | 第8-11页 |
| 1.1.2 场发射阴极材料 | 第11-13页 |
| 1.2 石墨烯场发射阴极结构 | 第13-16页 |
| 1.2.1 石墨烯结构与特性 | 第13-14页 |
| 1.2.2 石墨烯的制备方法 | 第14-15页 |
| 1.2.3 石墨烯在场发射领域应用现状 | 第15-16页 |
| 1.3 石墨烯/纳米镍复合阴极表征方法 | 第16-18页 |
| 1.3.1 X射线衍射仪(XRD) | 第17页 |
| 1.3.2 X射线光电子能谱(XPS) | 第17页 |
| 1.3.3 拉曼光谱(Raman spectrum) | 第17页 |
| 1.3.4 扫描电子显微镜(SEM) | 第17-18页 |
| 1.3.5 红外光谱(FTIR) | 第18页 |
| 1.4 本课题研究内容 | 第18-20页 |
| 1.4.1 本课题研究的目的及意义 | 第18-19页 |
| 1.4.2 本课题研究的主要内容 | 第19-20页 |
| 第二章 纳米镍的制备与表征分析 | 第20-28页 |
| 2.1 引言 | 第20页 |
| 2.2 样品制备 | 第20-22页 |
| 2.2.1 实验试剂及仪器 | 第20-21页 |
| 2.2.2 样品制备 | 第21-22页 |
| 2.3 纳米镍的形貌调控及表征 | 第22-25页 |
| 2.3.1 硫酸镍浓度对纳米镍生长的影响 | 第22-24页 |
| 2.3.2 生长温度对纳米镍形貌的影响 | 第24-25页 |
| 2.4 海胆状纳米镍的生长机理分析 | 第25-26页 |
| 2.5 本章小结 | 第26-28页 |
| 第三章 纳米镍/氧化石墨烯复合材料的性能研究 | 第28-35页 |
| 3.1 纳米镍/氧化石墨烯复合材料的制备 | 第28-29页 |
| 3.2 纳米镍/氧化石墨烯复合材料的形貌成分分析 | 第29-32页 |
| 3.2.1 样品的XRD与Raman测试表征 | 第29-30页 |
| 3.2.2 样品的FTIR测试表征 | 第30页 |
| 3.2.3 样品的XPS测试表征 | 第30-31页 |
| 3.2.4 样品的SEM形貌表征 | 第31-32页 |
| 3.3 PAH溶度对纳米镍/氧化石墨烯复合材料的影响 | 第32-33页 |
| 3.4 纳米镍/氧化石墨复合材料的生长机理分析 | 第33页 |
| 3.5 本章小结 | 第33-35页 |
| 第四章 纳米镍及其复合阴极的场发射性能测试 | 第35-47页 |
| 4.1 纳米镍场发射性能测试 | 第35-40页 |
| 4.1.1 硫酸镍浓度对纳米镍场发射性能的影响 | 第35-38页 |
| 4.1.2 生长温度对纳米镍场发射性能的影响 | 第38-40页 |
| 4.2 纳米Ni/GO复合材料场发射性能测试 | 第40-44页 |
| 4.2.1 包覆程度对Ni/GO复合材料场发射性能的影响 | 第40-42页 |
| 4.2.2 不同形貌纳米镍对Ni/GO复合材料场发射性能的影响 | 第42-44页 |
| 4.3 场发射稳定性测试 | 第44-45页 |
| 4.4 本章小结 | 第45-47页 |
| 第五章 等离子体处理还原复合阴极的性能研究 | 第47-55页 |
| 5.1 等离子体还原机理 | 第47-48页 |
| 5.2 纳米镍/还原氧化石墨烯复合材料的制备 | 第48-49页 |
| 5.3 样品的成分和形貌表征 | 第49-51页 |
| 5.3.1 XRD测试表征 | 第49页 |
| 5.3.2 XPS测试表征 | 第49-50页 |
| 5.3.3 FTIR测试表征 | 第50-51页 |
| 5.4 样品的场发射性能测试 | 第51-53页 |
| 5.4.1 等离子体处理时间对纳米Ni/rGO场发射性能的影响 | 第51-53页 |
| 5.4.2 纳米Ni/rGO复合材料的场发射稳定性测试 | 第53页 |
| 5.5 本章小结 | 第53-55页 |
| 结论 | 第55-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 个人简历 | 第65-66页 |
| 攻读硕士期间的研究成果及发表的学术论文 | 第66-67页 |
