| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 引言 | 第8-22页 |
| 1.1 概述 | 第8-9页 |
| 1.2 ThO_2的合成及其性质 | 第9-12页 |
| 1.2.1 ThO_2的合成 | 第9页 |
| 1.2.2 ThO_2的性质 | 第9-12页 |
| 1.3 ThO_2及其它锕系氧化物的理论研究现状 | 第12-19页 |
| 1.3.1 含有强相关作用的f区元素理论计算 | 第13-17页 |
| 1.3.2 水分子与锕系元素氧化物的相互作用 | 第17-19页 |
| 1.4 ThO_2及其它锕系氧化物缺陷体系及其应用 | 第19-21页 |
| 1.5 本论文的研究目的 | 第21-22页 |
| 第二章 ThO_2完整及缺陷表面的构型和电子结构 | 第22-35页 |
| 2.1 计算方法 | 第22-23页 |
| 2.2 结果与讨论 | 第23-33页 |
| 2.2.1 ThO_2体相构型和电子结构 | 第23-25页 |
| 2.2.2 ThO_2完整表面的构型和电子结构 | 第25-29页 |
| 2.2.3 ThO_2(111)缺陷表面的构型和电子结构 | 第29-33页 |
| 2.3 本章小结 | 第33-35页 |
| 第三章 水分子在ThO_2不同完整表面吸附行为的理论研究 | 第35-62页 |
| 3.1 计算方法 | 第35-36页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第36-61页 |
| 3.2.1 H_2O在ThO_2不同完整表面的吸附构型 | 第36-41页 |
| 3.2.2 H_2O在ThO_2不同完整表面分子吸附态与解离吸附态的转化过程 | 第41-52页 |
| 3.2.3 羟基在ThO_2不同完整表面的迁移过程 | 第52-61页 |
| 3.3 本章小结 | 第61-62页 |
| 第四章 水分子在ThO_2(111)缺陷表面吸附行为的理论研究 | 第62-77页 |
| 4.1 计算方法 | 第62页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第62-75页 |
| 4.2.1 分子吸附构型 | 第62-64页 |
| 4.2.2 H_2O分解后的吸附构型 | 第64-65页 |
| 4.2.3 H_2O在ThO_2(111)缺陷表面的分解过程 | 第65-75页 |
| 4.2.3.1 F_(s~0)缺陷表面 | 第66-69页 |
| 4.2.3.2 F_(s~+)缺陷表面 | 第69-71页 |
| 4.2.3.3 F_(s~(2+))陷表面 | 第71-75页 |
| 4.3 本章小结 | 第75-77页 |
| 第五章 结论 | 第77-80页 |
| 5.1 清洁表面 | 第77-78页 |
| 5.2 水分子在完整表面的吸附和解离行为 | 第78页 |
| 5.3 水分子在(111)缺陷表面的吸附和解离行为 | 第78-80页 |
| 参考文献 | 第80-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 个人简历 | 第88-89页 |
| 在读期间已发表和录用的论文 | 第89页 |
