| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-32页 |
| 1.1 固体材料表面的润湿性及疏水表面的制备 | 第12-15页 |
| 1.1.1 润湿性概述 | 第12-13页 |
| 1.1.2 亲水表面 | 第13-14页 |
| 1.1.3 疏水表面 | 第14-15页 |
| 1.2 N-TiOx薄膜 | 第15-20页 |
| 1.2.1 N-TiOx薄膜的制备技术 | 第15-16页 |
| 1.2.2 N-TiOx薄膜的性能 | 第16-20页 |
| 1.3 类金刚石薄膜 | 第20-23页 |
| 1.3.1 掺杂类金刚石薄膜 | 第20-21页 |
| 1.3.2 Si-DLC薄膜 | 第21-23页 |
| 1.4 电子回旋共振波(ECWR)技术 | 第23-29页 |
| 1.4.1 ECWR射频溅射系统的原理 | 第23-27页 |
| 1.4.2 ECWR射频溅射系统的特点 | 第27-28页 |
| 1.4.3 ECWR射频溅射系统的应用 | 第28-29页 |
| 1.5 课题研究内容和目的 | 第29-32页 |
| 第2章 Si-DLC薄膜的制备技术 | 第32-48页 |
| 2.1 ECWR射频溅射系统设计 | 第32-38页 |
| 2.1.1 系统设计概述 | 第32-33页 |
| 2.1.2 电感耦合系统设计 | 第33-34页 |
| 2.1.3 静磁场的设计 | 第34-37页 |
| 2.1.4 射频溅射系统设计 | 第37-38页 |
| 2.2 OES光谱检测 | 第38-42页 |
| 2.3 实验流程 | 第42-47页 |
| 2.3.1 实验材料 | 第42-43页 |
| 2.3.2 清洗基底 | 第43页 |
| 2.3.3 薄膜制备 | 第43-44页 |
| 2.3.4 手机触摸屏测试要求 | 第44-45页 |
| 2.3.5 工艺参数优化 | 第45-47页 |
| 2.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 第3章 Si-DLC薄膜的形貌表征和结构分析 | 第48-62页 |
| 3.1 膜厚测试 | 第48-49页 |
| 3.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第49-51页 |
| 3.3 成分分析 | 第51-60页 |
| 3.3.1 拉曼(Raman)光谱仪 | 第51-54页 |
| 3.3.2 X射线衍射谱仪(XRD) | 第54-55页 |
| 3.3.3 X射线光电子能谱仪(XPS) | 第55-58页 |
| 3.3.4 透射电镜(TEM) | 第58-60页 |
| 3.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 第4章 Si-DLC薄膜的性能分析 | 第62-74页 |
| 4.1 接触角测试 | 第62-64页 |
| 4.2 摩擦磨损试验 | 第64-72页 |
| 4.2.1 DLC薄膜的摩擦学机理 | 第65-67页 |
| 4.2.2 实验结果与讨论 | 第67-69页 |
| 4.2.3 摩擦磨损后SEM像 | 第69-71页 |
| 4.2.4 摩擦磨损后Raman分析 | 第71页 |
| 4.2.5 摩擦磨损后接触角分析 | 第71-72页 |
| 4.3 本章小结 | 第72-74页 |
| 第5章 SiOx-DLC薄膜的制备和性能分析 | 第74-100页 |
| 5.1 SiOx-DLC薄膜的制备 | 第74-79页 |
| 5.1.1 等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术 | 第74-76页 |
| 5.1.2 OES光谱检测 | 第76-77页 |
| 5.1.3 工艺参数优化 | 第77-79页 |
| 5.2 SiOx-DLC薄膜的表征 | 第79-85页 |
| 5.2.1 SEM检测 | 第79-80页 |
| 5.2.2 Raman光谱检测 | 第80-83页 |
| 5.2.3 XRD检测 | 第83-84页 |
| 5.2.4 XPS检测 | 第84-85页 |
| 5.3 SiOx-DLC薄膜的性能分析 | 第85-97页 |
| 5.3.1 接触角测试 | 第85-89页 |
| 5.3.2 摩擦磨损试验 | 第89-97页 |
| 5.4 本章小结 | 第97-100页 |
| 第6章 总结与展望 | 第100-104页 |
| 6.1 主要工作与结论 | 第100-101页 |
| 6.2 研究展望 | 第101-104页 |
| 参考文献 | 第104-112页 |
| 致谢 | 第112-114页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第114页 |