摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-10页 |
第一章 绪论 | 第10-24页 |
·引言 | 第10-11页 |
·模型催化剂的制备方法 | 第11-14页 |
·金属蒸镀 | 第11-12页 |
·浸渍 | 第12-13页 |
·化学气相沉积 | 第13-14页 |
·光刻 | 第14页 |
·催化剂的表征技术 | 第14-15页 |
·Au/Z10_2催化剂的研究现状与研究进展 | 第15-23页 |
·尺寸效应对Au/Z10_2催化活性的影响 | 第17-18页 |
·Au 化学态对Au/Z10_2催化活性的影响 | 第18-19页 |
·Z10_2的晶相结构对Au/Z10_2催化活性的影响 | 第19-20页 |
·Au 的稳定性对Au/Z10_2催化活性的影响 | 第20-21页 |
·Au/Z10_2催化剂的理论研究 | 第21-22页 |
·Au/Z10_2催化剂的模型体系研究 | 第22-23页 |
·选题思路及研究内容 | 第23-24页 |
第二章 实验设备与实验方法 | 第24-35页 |
·光电子能谱简介 | 第24-28页 |
·基本原理 | 第24-26页 |
·X 射线光电子能谱(XPS) | 第26页 |
·真空紫外光电子能谱(UPS) | 第26-27页 |
·同步辐射光电子能谱(SRPES) | 第27-28页 |
·低能电子衍射(LEED)简介 | 第28-29页 |
·合肥国家同步辐射实验室光电子能谱站介绍 | 第29-30页 |
·自旋涂膜技术(spin-coating) | 第30-32页 |
·扫描电子显微镜(SEM)实验介绍 | 第32-35页 |
第三章 Z10_2薄膜的制备及其表征 | 第35-43页 |
·有序Z10_2(111)薄膜的制备及其表征 | 第35-36页 |
·多孔Z10_2薄膜的制备及其表征 | 第36-42页 |
·薄膜制备 | 第36-37页 |
·薄膜表征 | 第37-42页 |
·本章结论 | 第42-43页 |
第四章 Au 在 Z10_2表面上的吸附 | 第43-53页 |
·Au 在Z10_2(111)薄膜上的吸附 | 第43-50页 |
·生长模式 | 第43-46页 |
·界面相互作用及电子特性 | 第46-50页 |
·比较Au 在多孔Z10_2薄膜和Z10_2(111)上的吸附 | 第50-52页 |
·本章总结 | 第52-53页 |
第五章 Au 在 Z10_2表面上的热稳定性研究 | 第53-60页 |
·Au 在有序Z10_2(111)上的热稳定性 | 第53-55页 |
·Au 在多孔Z10_2上的热稳定性 | 第55页 |
·Au 在两种不同表面结构Z10_2上的热稳定性对比研究 | 第55-59页 |
·本章总结 | 第59-60页 |
第六章 总结和展望 | 第60-62页 |
·总结 | 第60-61页 |
·展望 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-70页 |
致谢 | 第70-71页 |
在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第71页 |