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自极化BiFeO3基薄膜的界面调控

摘要第8-10页
Abstract第10-11页
第一章 绪论第12-22页
    1.1 前言第12页
    1.2 铁电材料第12-13页
        1.2.1 铁电材料定义第12-13页
        1.2.2 铁电薄膜材料第13页
    1.3 铁电薄膜材料的应用第13-15页
        1.3.1 铁电随机存储器第13-14页
        1.3.2 热释电红外探测器第14-15页
        1.3.3 声表面波器件第15页
    1.4 BiFeO_3铁电薄膜材料第15-18页
        1.4.1 晶体结构第15-16页
        1.4.2 国内外研究进展第16-18页
    1.5 自极化及其研究进展第18-20页
    1.6 本课题研究的意义及主要内容第20-22页
        1.6.1 本课题研究的意义第20-21页
        1.6.2 本课题研究的主要内容第21-22页
第二章 实验方案设计与研究方法第22-28页
    2.1 试验原料及仪器设备第22-23页
    2.2 BiFeO_3薄膜的制备第23-25页
        2.2.1 薄膜制备方法第23页
        2.2.2 前驱体溶液的配制第23-24页
        2.2.3 BiFeO_3基薄膜的制备工艺流程第24-25页
    2.3 铁电薄膜的结构与性能的表征方法第25-28页
        2.3.1 X射线衍射仪第25页
        2.3.2 铁电测试仪第25-26页
        2.3.3 原子力显微镜第26-28页
第三章 自极化Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3薄膜的铁电性能研究第28-44页
    3.1 引言第28页
    3.2 Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3薄膜的自极化和老化行为第28-29页
    3.3 自极化Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3薄膜的结构第29-30页
    3.4 自极化Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3薄膜铁电性能的表征第30-42页
        3.4.1 测试电压对自极化Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3薄膜电滞回线的影响第30-36页
        3.4.2 延迟时间对自极化Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3薄膜电滞回线缺口的影响第36-38页
        3.4.3 测试电压顺序对Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3薄膜铁电性能的影响第38-41页
        3.4.4 自极化Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3薄膜的老化第41-42页
    3.5 小结第42-44页
第四章 不同W~(6+)掺量Bi_(1.1)Fe_(1-x)W_xO_3对Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3薄膜的影响第44-52页
    4.1 引言第44页
    4.2 W~(6+)掺量对(top) Bi_(1.1)Fe_(1-x)W_xO_3/Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3薄膜结构和铁电性能的影响第44-46页
        4.2.1 W~(6+)掺量对(top)Bi_(1.1)Fe_(1-x)W_xO_3/Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3薄膜结构的影响第44-45页
        4.2.2 W~(6+)掺量对(top) Bi_(1.1)Fe_(1-x)W_xO_3/Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3薄膜铁电性能的影响第45-46页
    4.3 W~(6+)掺量对Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3/Bi_(1.1)Fe_(1-x)W_xO_3(bottom)薄膜结构和铁电性能的影响第46-48页
        4.3.1 W~(6+)掺量对Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3/Bi_(1.1)Fe_(1-x)W_xO_3(bottom)薄膜结构的影响第46-47页
        4.3.2 W~(6+)掺量对Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3/Bi_(1.1)Fe_(1-x)W_xO_3(bottom)薄膜铁电性能的影响第47-48页
    4.4 W~(6+)掺量对Bi_(1.1)Fe_(1-x)W_xO_3/Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3/Bi_(1.1)Fe_(1-x)W_xO_3薄膜结构和铁电性能的影响第48-50页
        4.4.1 W~(6+)掺量对Bi_(1.1)Fe_(1-x)W_xO_3/Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3/Bi_(1.1)Fe_(1-x)W_xO_3薄膜结构的影响第48-49页
        4.4.2 W~(6+)掺量对Bi_(1.1)Fe_(1-x)W_xO_3/Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3/Bi_(1.1)Fe_(1-x)W_xO_3薄膜铁电性能的影响第49-50页
    4.5 小结第50-52页
第五章 Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3薄膜的界面调控第52-64页
    5.1 引言第52页
    5.2 Bi_(1.1)Fe_(0.99)W_(0.01)O_3界面层位置对Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3结构的影响第52-53页
    5.3 Bi_(1.1)Fe_(0.99)W_(0.01)O_3界面层位置对Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3铁电性能的影响第53-58页
        5.3.1 低电压下薄膜的铁电性第53-56页
        5.3.2 高电压下薄膜的铁电性第56-58页
    5.4 Bi_(1.1)Fe_(0.99)W_(0.01)O_3界面层位置对Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3保持性能的影响第58-61页
    5.5 Bi_(1.1)Fe_(0.99)W_(0.01)O_3界面层位置对Bi_(1.1)Fe_(0.95)Mn_(0.05)O_3压电性能的影响第61-62页
    5.6 小结第62-64页
第六章 结论与展望第64-66页
    6.1 主要研究结论第64-65页
    6.2 主要创新点第65页
    6.3 工作展望第65-66页
参考文献第66-74页
致谢第74-76页
附录第76页

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