DNA分子显微操纵技术的研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-14页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 课题研究的背景和意义 | 第8-9页 |
| 1.3 国内外研究现状 | 第9-13页 |
| 1.4 课题来源及研究内容 | 第13-14页 |
| 1.4.1 课题来源 | 第13页 |
| 1.4.2 研究目的及主要研究内容 | 第13-14页 |
| 第二章 DNA分子显微成像及操纵系统 | 第14-22页 |
| 2.1 引言 | 第14页 |
| 2.2 显微成像系统的组成及成像原理 | 第14-17页 |
| 2.2.1 系统组成 | 第14-15页 |
| 2.2.2 成像原理 | 第15-17页 |
| 2.3 显微成像系统工作模式 | 第17-19页 |
| 2.3.1 接触式成像模式 | 第17-18页 |
| 2.3.2 非接触式成像模式 | 第18页 |
| 2.3.3 轻敲式成像模式 | 第18-19页 |
| 2.4 AFM在纳米领域的应用 | 第19-21页 |
| 2.4.1 纳米加工、刻蚀、操纵中的应用 | 第19-20页 |
| 2.4.2 力学性质研究中的应用 | 第20-21页 |
| 2.5 本章小结 | 第21-22页 |
| 第三章 DNA分子的高分辨成像 | 第22-32页 |
| 3.1 引言 | 第22页 |
| 3.2 DNA分子的性质 | 第22-24页 |
| 3.3 硅烷化修饰成像 | 第24-27页 |
| 3.3.1 实验试剂与仪器 | 第24页 |
| 3.3.2 材料的选择与准备 | 第24-25页 |
| 3.3.3 实验方法与步骤 | 第25-26页 |
| 3.3.4 成像及结果 | 第26-27页 |
| 3.4 金属离子修饰成像 | 第27-29页 |
| 3.4.1 实验试剂与仪器 | 第27页 |
| 3.4.2 材料的选择与准备 | 第27-28页 |
| 3.4.3 实验方法与步骤 | 第28页 |
| 3.4.4 成像及结果 | 第28-29页 |
| 3.5 讨论与分析 | 第29-31页 |
| 3.6 本章小结 | 第31-32页 |
| 第四章 DNA分子在电场中的显微操纵 | 第32-39页 |
| 4.1 引言 | 第32页 |
| 4.2 电场原理及性质 | 第32-34页 |
| 4.2.1 库仑定律 | 第32-33页 |
| 4.2.2 电场强度及性质 | 第33-34页 |
| 4.3 DNA在电场下的伸展与拉直 | 第34-38页 |
| 4.3.1 电场调节装置的制作 | 第34页 |
| 4.3.2 DNA分子操纵流程 | 第34-36页 |
| 4.3.3 DNA分子扫描成像结果 | 第36页 |
| 4.3.4 DNA分子力学模型分析 | 第36-38页 |
| 4.4 本章小结 | 第38-39页 |
| 第五章 DNA分子显微操纵技术应用研究 | 第39-44页 |
| 5.1 引言 | 第39页 |
| 5.2 恒力定点切割 | 第39-41页 |
| 5.2.1 恒力定点切割样品的制备 | 第39-40页 |
| 5.2.2 恒力定点切割流程 | 第40页 |
| 5.2.3 结果与分析 | 第40-41页 |
| 5.3 酶定点切割 | 第41-43页 |
| 5.3.1 酶定点切割样品准备 | 第41-42页 |
| 5.3.2 酶定点切割流程 | 第42页 |
| 5.3.3 结果与分析 | 第42-43页 |
| 5.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 第六章 总结和展望 | 第44-46页 |
| 6.1 工作总结 | 第44页 |
| 6.2 工作展望 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 作者简介及科研成果 | 第50页 |
