| 第一章 前言 | 第8-37页 |
| 1.1 梯形聚合物的发展 | 第9-19页 |
| 1.1.1 多官能缩聚反应合成的梯形聚合物 | 第10-12页 |
| 1.1.2 利用Diels-Alder 反应合成的梯形聚合物 | 第12-13页 |
| 1.1.3 单链聚合物前体经成环反应得到的梯形聚合物 | 第13-19页 |
| 1.2 梯形聚苯的发展与应用 | 第19-24页 |
| 1.3 梯形聚苯的衍生物 | 第24-27页 |
| 1.4 共轭聚合物研究的一些最新进展 | 第27-28页 |
| 1.4.1 主链含咔唑基团的共轭聚合物 | 第27-28页 |
| 1.4.2 水溶性共轭聚合物\聚电解质的研究进展 | 第28页 |
| 1.5 论文研究的结构与设计思路 | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-37页 |
| 第二章 含芴单元梯形聚苯的合成与表征 | 第37-57页 |
| 2.1 引言 | 第37-39页 |
| 2.2 含芴单元梯形聚苯的合成 | 第39-43页 |
| 2.2.1 单体的合成 | 第39-41页 |
| 2.2.2 聚合物的合成 | 第41-43页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第43-53页 |
| 2.3.1 新型含芴梯形聚苯的溶解性与分子量 | 第43-44页 |
| 2.3.2 新型含芴梯形聚苯的结构表征 | 第44-47页 |
| 2.3.3 新型含芴梯形聚苯的热性质 | 第47-49页 |
| 2.3.4 化合物的光谱性质 | 第49-53页 |
| 2.4 本章小结 | 第53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 第三章 含芴梯形聚苯的电致发光 | 第57-69页 |
| 3.1 引言 | 第57-58页 |
| 3.2 含芴梯形聚苯的自吸收效应 | 第58-60页 |
| 3.3 基本器件结构电致发光性能的研究 | 第60-64页 |
| 3.4 多层器件电致发光性能的研究 | 第64-67页 |
| 3.5 本章小结 | 第67页 |
| 参考文献 | 第67-69页 |
| 第四章 含咔唑单元半梯形聚苯的设计、合成及性质 | 第69-93页 |
| 4.1 引言 | 第69-70页 |
| 4.2 含咔唑单元半梯形聚苯的合成 | 第70-78页 |
| 4.2.1 N-烷基2,7 取代咔唑的合成 | 第70-75页 |
| 4.2.2 含咔唑单元半梯形聚苯的合成 | 第75-78页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第78-90页 |
| 4.3.1 新型含咔唑半梯形聚苯的结构与表征 | 第79-83页 |
| 4.3.2 新型含咔唑半梯形聚苯的基本性质 | 第83-84页 |
| 4.3.3 新型含咔唑聚合物的光谱性质 | 第84-88页 |
| 4.3.4 新型含咔唑半梯形聚苯的电化学性质 | 第88-89页 |
| 4.3.5 新型含咔唑半梯形聚苯的电致发光性质 | 第89-90页 |
| 4.4 本章小结 | 第90页 |
| 参考文献 | 第90-93页 |
| 第五章 若干新型醇/水溶性聚苯类材料的合成与性质 | 第93-112页 |
| 5.1 引言 | 第93-94页 |
| 5.2 若干醇溶性含三级胺聚苯的合成 | 第94-99页 |
| 5.2.1 含胺单体的合成 | 第94-97页 |
| 5.2.2 含三级胺聚苯的合成 | 第97-99页 |
| 5.3 新型含胺基聚苯材料的表征与性质 | 第99-103页 |
| 5.3.1 含胺基聚苯类材料的溶解性 | 第99-100页 |
| 5.3.2 新型含胺基聚苯的的基本性质 | 第100-102页 |
| 5.3.3 新型含胺基聚苯的的光谱性质 | 第102-103页 |
| 5.4 两亲性梯形聚苯的合成 | 第103-111页 |
| 5.4.1 设计思路 | 第103-104页 |
| 5.4.2 单体的合成 | 第104-106页 |
| 5.4.3 两亲性梯形聚苯的合成 | 第106-110页 |
| 5.4.4 聚合物的光谱 | 第110-111页 |
| 5.5 本章小结 | 第111-112页 |
| 第六章 实验用试剂和测试仪器 | 第112-116页 |
| 简历 | 第116页 |
| 发表论文 | 第116-119页 |
| 致谢 | 第119-120页 |
| 摘要 | 第120-122页 |
| Abstract | 第122页 |