| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| 1.1.1 印染废水简介 | 第10页 |
| 1.1.2 印染废水处理技术 | 第10-11页 |
| 1.2 光电催化技术 | 第11-17页 |
| 1.2.1 光电催化简介 | 第11-13页 |
| 1.2.2 TiO_2光催化技术 | 第13-14页 |
| 1.2.3 TiO_2光催化剂的改性 | 第14-17页 |
| 1.3 研究目的与研究内容 | 第17-21页 |
| 1.3.1 研究目的 | 第17-19页 |
| 1.3.2 研究内容 | 第19-21页 |
| 第2章 材料与方法 | 第21-27页 |
| 2.1 Er~(3+):YAlO_3/RGO/TiO_2的制备 | 第21-22页 |
| 2.1.1 上转换发光剂Er~(3+):YAlO_3的制备 | 第21页 |
| 2.1.2 Er~(3+):YAlO_3/TiO_2及TiO_2催化剂的制备 | 第21页 |
| 2.1.3 氧化石墨的制备 | 第21-22页 |
| 2.1.4 RGO/TiO_2及Er~(3+):YAlO_3/RGO/TiO_2催化剂的制备 | 第22页 |
| 2.1.5 电极的制备 | 第22页 |
| 2.2 响应面法优化Er~(3+):YAlO_3/RGO/TiO_2催化剂的实验设计 | 第22-24页 |
| 2.3 催化剂表征分析 | 第24-25页 |
| 2.3.1 X射线衍射分析（XRD） | 第24页 |
| 2.3.2 X射线光电子能谱分析（XPS） | 第24页 |
| 2.3.3 紫外-可见漫反射光谱分析（UV-vis DRS） | 第24页 |
| 2.3.4 光致发光光谱分析（PL） | 第24-25页 |
| 2.3.5 扫描电子显微镜及能谱分析（SEM-EDX） | 第25页 |
| 2.4 光电催化实验装置的搭建及运行 | 第25-26页 |
| 2.4.1 光电催化实验装置 | 第25-26页 |
| 2.4.2 光电催化性能测试 | 第26页 |
| 2.5 电化学指标测试 | 第26-27页 |
| 2.5.1 光电流响应测试 | 第26页 |
| 2.5.2 电化学阻抗测试 | 第26-27页 |
| 第3章 Er~(3+):YAlO_3/RGO/TiO_2电极的制备与表征 | 第27-40页 |
| 3.1 Er~(3+):YAlO_3/RGO/TiO_2催化剂的制备与优化 | 第27-33页 |
| 3.1.1 Er~(3+):YAlO_3/RGO/TiO_2催化剂的制备与光催化性能分析 | 第27-28页 |
| 3.1.2 响应面法优化 | 第28-33页 |
| 3.2 Er~(3+):YAlO_3/RGO/TiO_2的表征分析 | 第33-37页 |
| 3.2.1 X射线衍射分析（XRD） | 第33-34页 |
| 3.2.2 X射线光电子能谱分析（XPS） | 第34-35页 |
| 3.2.3 紫外-可见漫反射光谱分析（UV-vis DRS） | 第35-36页 |
| 3.2.4 光致发光光谱分析（PL） | 第36-37页 |
| 3.2.5 扫描电子显微镜及能谱分析（SEM-EDX） | 第37页 |
| 3.3 Er~(3+):YAlO_3/RGO/TiO_2电极的制备与电化学指标分析 | 第37-40页 |
| 3.3.1 光电流响应分析 | 第37-38页 |
| 3.3.2 电化学阻抗分析 | 第38-40页 |
| 第4章 Er~(3+):YAlO_3/RGO/TiO_2电极的光电催化性能研究 | 第40-46页 |
| 4.1 Er~(3+):YAlO_3/RGO/TiO_2电极的光电催化活性 | 第40-42页 |
| 4.1.1 电极材料对光电催化活性的影响 | 第40-41页 |
| 4.1.2 催化过程对催化活性的影响 | 第41-42页 |
| 4.2 光电催化性能的影响因素研究 | 第42-45页 |
| 4.2.1 外加偏电压对光电催化性能的影响 | 第42-43页 |
| 4.2.2 Na_2SO_4浓度对光电催化性能的影响 | 第43-44页 |
| 4.2.3 溶液初始pH对光电催化性能的影响 | 第44-45页 |
| 4.3 Er~(3+):YAlO_3/RGO/TiO_2电极的光电催化机理 | 第45-46页 |
| 第5章 结论与展望 | 第46-47页 |
| 5.1 结论 | 第46页 |
| 5.2 展望 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-55页 |
| 作者简介及攻读硕士期间发表学术论文情况 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |
