| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 选题背景及意义 | 第10-12页 |
| 1.1.1 表面微结构的介绍 | 第10-11页 |
| 1.1.2 表面微结构的工程应用 | 第11-12页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第12-18页 |
| 1.2.1 金属表面微结构加工技术研究现状 | 第12-14页 |
| 1.2.2 金属表面微结构电解加工技术研究现状 | 第14-18页 |
| 1.3 课题的提出及主要研究内容 | 第18-20页 |
| 1.3.1 课题来源及研究意义 | 第18页 |
| 1.3.2 课题研究内容 | 第18-20页 |
| 第2章 气膜屏蔽微细电解加工去除机理 | 第20-36页 |
| 2.1 电化学加工基本理论 | 第20-23页 |
| 2.1.1 电极电位 | 第21-22页 |
| 2.1.2 法拉第定律和电流效率 | 第22-23页 |
| 2.2 电解加工基本理论 | 第23-25页 |
| 2.2.1 电解加工原理 | 第23-24页 |
| 2.2.2 加工间隙 | 第24页 |
| 2.2.3 电解加工间隙中的流场特性 | 第24-25页 |
| 2.3 气膜屏蔽微细电解加工原理 | 第25-34页 |
| 2.3.1 极化特性研究 | 第27-30页 |
| 2.3.2 水跃现象 | 第30页 |
| 2.3.3 气泡观察 | 第30-34页 |
| 2.4 本章小结 | 第34-36页 |
| 第3章 气膜屏蔽下微细电解加工间隙流场特性的研究 | 第36-50页 |
| 3.1 计算机仿真软件FLUENT介绍 | 第36-37页 |
| 3.2 基本流体动力学方程 | 第37-38页 |
| 3.3 气体入射角度对加工间隙流场特性的影响 | 第38-42页 |
| 3.3.1 气膜屏蔽微细电解加工有限元模型 | 第38-39页 |
| 3.3.2 气体入射角度对加工区域气体体积分数的影响 | 第39-41页 |
| 3.3.3 气体入射角度对电解液速度的影响 | 第41-42页 |
| 3.4 气体入射压强对加工间隙流场特性的影响 | 第42-45页 |
| 3.4.1 气体入射压强对加工区域气体体积分数的影响 | 第42-43页 |
| 3.4.2 气体入射压力对加工区域液体流速的影响 | 第43-45页 |
| 3.4.3 气液两相喷嘴制作 | 第45页 |
| 3.5 气膜屏蔽微细电解加工速度场实验研究 | 第45-49页 |
| 3.5.1 粒子图像测速技术 | 第45-46页 |
| 3.5.2 PIV实验系统 | 第46-47页 |
| 3.5.3 实验结果与分析 | 第47-49页 |
| 3.6 本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 气膜屏蔽微细电解加工工艺研究 | 第50-70页 |
| 4.1 气膜屏蔽微细电解加工实验系统组成 | 第50-54页 |
| 4.1.1 电解加工机床系统 | 第51页 |
| 4.1.2 电源系统 | 第51-52页 |
| 4.1.3 电解液系统 | 第52-53页 |
| 4.1.4 供气系统 | 第53-54页 |
| 4.2 微细电极制作 | 第54-56页 |
| 4.3 气膜屏蔽微细电解加工基础实验研究 | 第56-59页 |
| 4.3.1 基础实验设计 | 第56-57页 |
| 4.3.2 基础实验结果分析 | 第57-59页 |
| 4.4 气膜屏蔽微细电解加工正交实验研究 | 第59-68页 |
| 4.4.1 正交实验设计 | 第59-60页 |
| 4.4.2 正交实验结果分析 | 第60-65页 |
| 4.4.3 正交实验参数优化分析 | 第65-68页 |
| 4.5 本章小结 | 第68-70页 |
| 第5章 结论与展望 | 第70-72页 |
| 5.1 结论 | 第70页 |
| 5.2 创新点 | 第70-71页 |
| 5.3 展望 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-76页 |
| 致谢 | 第76-78页 |
| 攻读学位期间参加的科研项目和成果 | 第78页 |