中文摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-11页 |
第一章 综述 | 第11-35页 |
第一节 化学修饰电极 | 第11-16页 |
·多核过渡金属铁氰化物薄膜修饰电极 | 第11-12页 |
·普鲁士蓝及普鲁士蓝修饰电极 | 第12-13页 |
·多核过渡金属铁氰化物薄膜修饰电极的制备 | 第13-14页 |
·多核过渡金属铁氰化物修饰电极的应用 | 第14-16页 |
·多核金属铁氰化物修饰电极的新趋势—稀土铁氰化物修饰电极 | 第16页 |
第二节 直接甲酸燃料电池 | 第16-20页 |
·直接甲酸燃料电池的发展 | 第16-17页 |
·直接甲酸燃料电池的问题 | 第17页 |
·直接甲酸燃料电池的阳极催化剂 | 第17-19页 |
·甲酸燃料电池中阳极催化剂载体 | 第19-20页 |
第三节 导电聚合物一聚苯胺 | 第20-22页 |
·聚苯胺的结构 | 第20-21页 |
·聚苯胺的性质 | 第21-22页 |
第四节 本论文研究的目的和意义 | 第22-24页 |
参考文献 | 第24-35页 |
第二章 甲酸在Nd-Fe-W0_4~(2-)氰桥混配物修饰铂电极上的电催化氧化 | 第35-50页 |
1 引言 | 第35-36页 |
2 实验 | 第36-38页 |
·仪器与试剂 | 第36-37页 |
·电极的处理与制备 | 第37页 |
·电化学性能测试 | 第37-38页 |
3 结果与讨论 | 第38-45页 |
·修饰电极的形貌特征 | 第38-39页 |
·支持电解质成分对甲酸电催化行为的影响 | 第39-41页 |
·甲酸浓度和氧化电流密度的关系 | 第41页 |
·扫描速率对峰电流和峰电位的影响 | 第41-43页 |
·CV 阳极回扫边界电位对反扫电流峰的影响 | 第43-44页 |
·计时电流曲线 | 第44页 |
·电极的稳定性 | 第44-45页 |
4 结论 | 第45-46页 |
参考文献 | 第46-50页 |
第三章 甲酸在分散铂微粒 | 第50-63页 |
1 引言 | 第50-51页 |
2 实验 | 第51-52页 |
·仪器与试剂 | 第51页 |
·电极的处理与制备 | 第51页 |
·电化学性能测试 | 第51-52页 |
3 结果与讨论 | 第52-60页 |
·电极的形貌特征 | 第52页 |
·Pt/Nd-Fe-W0_4~(2-)/Pt 电极修饰电位的选择 | 第52-53页 |
·恒电位沉积时间对Pt/Nd-Fe-W0_4~(2-)/Pt 电极制备的影响 | 第53-54页 |
·氯铂酸浓度的选择 | 第54页 |
·起扫电位静息时间对甲酸电催化氧化的影响 | 第54-55页 |
·Pt/ Nd-Fe-W0_4~(2-)/Pt 和 Nd-Fe-W0_4~(2-)/Pt 电极在硫酸溶液中的循环伏安曲线 | 第55页 |
·甲酸浓度和氧化电流密度的关系 | 第55-56页 |
·回扫阳极边界对甲酸电催化氧化的影响 | 第56-57页 |
·计时电流曲线 | 第57-58页 |
·扫速对甲酸电催化氧化的影响 | 第58-59页 |
·Nd-Fe-W0_4~(2-)/Pt 和Pt/ Nd-Fe-W0_4~(2-)/Pt 电极在甲酸溶液中的CV 曲线 | 第59-60页 |
·温度对甲酸电催化氧化的影响 | 第60页 |
4 结论 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-63页 |
第四章 聚苯胺分散铂微粒/Nd-Fe-WO_4~(2-)氰桥混配物复合修饰铂电(PAn-Pt/Nd-Fe-WO_4~(2-)/Pt)对甲酸电催化性能的研究 | 第63-75页 |
1 引言 | 第63-64页 |
2 实验 | 第64-65页 |
·仪器与试剂 | 第64页 |
·PAn-Pt/ Nd-Fe-W0_4~(2-)/Pt 电极的制备 | 第64-65页 |
·电化学测量 | 第65页 |
3 结果与讨论 | 第65-72页 |
·PAn-Pt/ Nd-Fe-W0_4~(2-)/Pt 修饰电极的形貌特征 | 第65-66页 |
·甲酸在不同电极上的循环伏安图 | 第66-67页 |
·计时电流曲线 | 第67页 |
·PAn-Pt/ Nd-Fe-W0_4~(2-)/Pt 电极的稳定性实验 | 第67-68页 |
·扫描速率对甲酸电催化氧化峰电流密度的影响 | 第68-69页 |
·PAn-Pt/ Nd-Fe-W0_4~(2-)/Pt 电极上甲酸浓度对电流密度的影响 | 第69-70页 |
·回扫电位边界对甲酸电催化氧化的影响 | 第70页 |
·起扫电位的静息时间对甲酸电催化氧化的影响 | 第70-71页 |
·温度对甲酸电催化氧化的影响 | 第71-72页 |
4 结论 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-75页 |
硕士期间发表论文 | 第75-76页 |
致谢 | 第76页 |