摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第10-18页 |
1.1 综述 | 第10页 |
1.2 石墨烯简介 | 第10-11页 |
1.3 石墨烯的基本结构和性质 | 第11-13页 |
1.3.1 石墨烯的能带结构和电子性质 | 第11-12页 |
1.3.2 石墨烯的光学性质 | 第12-13页 |
1.3.3 石墨烯的电荷输运性质 | 第13页 |
1.4 石墨烯的应用前景 | 第13-15页 |
1.4.1 在微电子学方面的应用 | 第14页 |
1.4.2 在透明电极方面的应用 | 第14-15页 |
1.4.3 在超级电容器方面的应用 | 第15页 |
1.5 论文主要研究内容 | 第15-18页 |
第2章 石墨烯的制备和转移方法及性能表征 | 第18-26页 |
2.1 石墨烯的常用制备方法 | 第18-20页 |
2.1.1 机械剥离法 | 第18页 |
2.1.2 化学氧化还原法 | 第18-19页 |
2.1.3 外延生长法 | 第19页 |
2.1.4 化学气相沉积法 | 第19-20页 |
2.1.5 其他制备方法 | 第20页 |
2.2 基于CVD石墨烯的常用转移方法 | 第20-23页 |
2.2.1 腐蚀基底法 | 第21页 |
2.2.2 干法转移与roll-to-roll法转移 | 第21-22页 |
2.2.3 电化学鼓泡法 | 第22-23页 |
2.3 石墨烯的性能表征 | 第23-25页 |
2.3.1 光学显微镜和扫描电子显微镜 | 第23页 |
2.3.2 原子力显微镜 | 第23-24页 |
2.3.3 拉曼光谱 | 第24-25页 |
2.4 本章小结 | 第25-26页 |
第3章 CVD石墨烯的电化学鼓泡分离实验 | 第26-36页 |
3.1 石墨烯的制备 | 第26-27页 |
3.2 石墨烯转移前的设想 | 第27-28页 |
3.3 用改进的电化学鼓泡法转移石墨烯 | 第28-34页 |
3.3.1 实验装置、样品和试剂 | 第28页 |
3.3.2 用聚四氟乙烯薄膜作石墨烯上层支撑层 | 第28-31页 |
3.3.3 用密闭空腔作石墨烯上层支撑层 | 第31-34页 |
3.4 实验结果对比与小结 | 第34-36页 |
第4章 鼓泡法转移石墨烯的微观机制 | 第36-46页 |
4.1 转移过程微观机制的提出 | 第36-38页 |
4.2 对转移过程微观机制的再次验证 | 第38-39页 |
4.3 密闭空腔隔绝法转移的石墨烯其他性能表征 | 第39-43页 |
4.3.1 扫描电镜成像(SEM) | 第39-40页 |
4.3.2 原子力显微镜成像(AFM) | 第40页 |
4.3.3 拉曼光谱 | 第40-42页 |
4.3.4 石墨烯场效应晶体管与载流子迁移率 | 第42-43页 |
4.4 基于密闭空腔处理的电化学鼓泡法前景展望 | 第43-44页 |
4.5 本章小结 | 第44-46页 |
第5章 垂直石墨烯的制备及在纳米机电系统领域的应用 | 第46-50页 |
5.1 NEMS简介 | 第46-47页 |
5.2 垂直石墨烯的制备方法 | 第47-48页 |
5.3 垂直石墨烯的应用 | 第48-49页 |
5.4 本章小结 | 第49-50页 |
结论 | 第50-52页 |
参考文献 | 第52-58页 |
攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第58-60页 |
致谢 | 第60页 |